脉冲激光沉积系统特点及优势
可根据客户需求定制产品，灵活性高，并提供的技术支持；靶台可以安装6个靶位，靶材更换灵活；样品台样品尺寸从10x10mm样品到2英寸样品均适用；进样室可以存储多个靶和样品；交易过程无需繁琐的进、出关手续, 交货期短，；
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脉冲激光沉积的应用领域
沈阳
脉冲激光沉积装置价格
脉冲激光沉积系统特点及优势
可根据客户需求定制产品，灵活性高，并提供的技术支持；靶台可以安装6个靶位，靶材更换灵活；样品台样品尺寸从10x10mm样品到2英寸样品均适用；进样室可以存储多个靶和样品；交易过程无需繁琐的进、出关手续, 交货期短，；
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脉冲激光沉积的应用领域
沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产、销售脉冲激光沉积，以下信息由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供。
脉冲激光沉积技术适合做的薄膜包括各种多元氧化物，氮化物，硫化物薄膜，金属薄膜，磁性材料等。
应用领域：
单晶薄膜外延（SrTiO3，LaAlO3）
压电薄膜（PZT，AlN，BiFeO3，BaTiO3）
铁电薄膜（BaTiO3，KH2PO4）
热电薄膜（SrTiO3）
金属和化合物薄膜电极（Ti，Ag，Au，Pt，Ni，Co，SrRuO3，LaNiO3，YZrO2，GdCeO2，LaSrCoFeO3）
半导体薄膜（Zn(Mg)O，AlN，SrTiO3）
高K介质薄膜（HfO2，CeO2，Al2O3，BaTiO3，SrTiO3，PbZrTiO3，LaAlO3，Ta2O5）
超导薄膜（YBa2CuO7-x，BiSrCaCuO）
光波导，光学薄膜（PZT，AlN，BaTiO3，Al2O3，ZrO2，TiO2）
超疏水薄膜（PTFE）
红外探测薄膜（V2O5，PZT）
脉冲激光沉积设备介绍
以下是沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您一起分享的内容，沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产脉冲激光沉积，欢迎新老客户莅临。
是比较理想的薄膜与涂层合成设备。可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2D材料。公司生产、销售脉冲激光沉积,公司拥有强大的销售团队和经营理念。Blue Wave还提供相关系统配件，例如基片加热装置、原位监测工具。此外，BlueWave还为您提供标准的薄膜以及材料涂层，例如氧化物涂层、导电薄膜、无定型或纳米晶Si/SiC、晶体AlN-GaN、聚合物、纳米钻石、HFCVD钻石涂层以及器件加工。
脉冲激光沉积的原理
脉冲激光沉积原理：在真空环境下利用脉冲激光对靶材表面进行轰击，利用激光产生的局域热量将靶材物质轰击出来，再沉积在不同的衬底上，从而形成薄膜。
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