微弧氧化电解液组成及工艺条件
微弧氧化电解液组成：K2SiO3 5～10g/L，Na2O2 4～6g/L，NaF 0.5～1g/L，CH3COONa 2～3g/L，Na3VO3 1～3g/L；该氧化膜还具有良好的绝缘性，耐500V以上的高压冲击，且有效防止电偶腐蚀。溶液pH为11～13；温度为20～50℃；阴极材料为不锈钢板；电解方式为先将电压迅速上升至300
镁合金微弧氧化封孔
微弧氧化电解液组成及工艺条件
微弧氧化电解液组成：K2SiO3 5～10g/L，Na2O2 4～6g/L，NaF 0.5～1g/L，CH3COONa 2～3g/L，Na3VO3 1～3g/L；该氧化膜还具有良好的绝缘性，耐500V以上的高压冲击，且有效防止电偶腐蚀。溶液pH为11～13；温度为20～50℃；阴极材料为不锈钢板；电解方式为先将电压迅速上升至300V，并保持5～10s，然后将阳极氧化电压上升至450V，电解5～10min。
两步电解法，靠前步：将铝基工件在200g/L的钾水玻璃水溶液中以1A/dm2的阳极电流氧化5min；第二步：将经靠前步微弧氧化后的铝基工件水洗后在70g/L的Na3P2O7水溶液中以1A/dm2的阳极电流氧化15min。在考虑简化电源结构的基础上，采用复合功率转换电路的形式，即由前级向后级供电，由后级控制电流的设计方案。阴极材料为：不锈钢板；溶液温度为20～度为20～50℃微弧氧化电源、微弧氧化技术、微弧氧化生产线
微弧氧化的设备
1. 微弧氧化电源
因电压要求较高(一般在510—700V之间)，需专门定制。通常配备硅变压器。电源输出电压：0—750V可调。电源输出大电流：5A、10A、30A、50A、100A等可选。
2.氧化槽
一般采用pp焊接槽即可，pp槽具有坚固，防腐蚀。
3.溶液冷却和搅拌系统
在微弧氧化过程中，会在工件表面产生瞬时高温高压，为了及时能带走产生的热量及平衡稳定氧化槽的温度，必须配备外循环和热交换方式，溶液的循环同时达到搅拌和冷却槽液的目的。微弧氧化电源、微弧氧化生产线、微弧氧化技术
微弧氧化抹的特点
微弧氧化处理后的铝基表面陶瓷膜层具有硬度高，耐蚀性强，绝缘性好，膜层与基底金属结合力强，并具有很好的和耐热冲击等性能。3、可处理的材料镁、铝、钛、锆、钽、铌等及其合金材料（包括含硅量较高的铝合金）。微弧氧化的合适放电区间较窄，要求对放电后的电参数控制比较好，大电流、高电压对供电电源提出了高要求，由于对微弧氧化本质认识限制，使得电源的设计及制造仍停留在经验摸索层面上，带有很大的盲目性。微弧氧化技术、微弧氧化生产线、微弧氧化电源
铝合金微弧氧化技术的特点
采用微弧氧化技术对铝合金进行表面陶瓷化处理，其优点如下：
1、陶瓷膜层有效提高工件性能：硬度，耐热性，性，抗腐蚀性，绝缘性等。
2、占地小、处理能力强，生产。
3、无毒环保，该液体不含有毒物质和zhong金属，再生重复使用。
4、通过改变液体成分，可使膜层有特种性能，或得到不同颜色。
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