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超纯水是指水中除水分子外几乎不含杂质，更无细菌、病毒、含氯等有机物，当然也不含人体所需要的矿物质微量元素，即除氧和氢以外的所有原子。据统计，2017年半导体用电子级超纯水市场规模达28.4亿美元，预计2022年该市场将增长至41.7亿美元，2018-2022年年均复合增长率为8%。就国内产业政策而言，超纯水及其相关产业链也面临重大发展机遇。半导体行业的兴起，将给电子级超纯水市场带来巨大的空间。(新浪财经)资料来源
半导体工业对超纯水的纯度有很高的要求，传统的超纯水生产一般都是使用离子交换树脂，但树脂再生频繁，不仅消耗材料，而且消耗劳动力。通过多年的实践，采用了反渗透水处理设备和电去离子(EDI)设备以及抛光混合床等技术来生产超纯水。
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超纯水的纯度已经成为影响光学器件质量、产量和成本的重要因素之一，因此在光学领域中对水质的要求越来越高。超纯水设备的性能直接影响超纯水的质量。
超纯水主要用于纯水清洗和纯水溶液的配制，不同工艺对纯水的使用和水质要求不同，如水中含有氯离子，电容器就会泄漏。电子管制造过程中，阴极被碳酸盐覆盖，若与杂质混在一起，会影响电子发射，进而影响电子管的放大性能和寿命。
本发明是利用显像管和 CRT制造过程中，用喷涂或沉淀的方法，将一层荧光材料粘附在荧光屏内壁上，由锌或其它金属硫化物与硅酸钾结合而成。制备需要超纯水。当纯水中铜含量超过8 ppb，就会引起发光变色，当含量超过50 ppb时就会出现颜色改变、颜色变暗、闪光。含有奇异有机物的胶体、颗粒和细菌会使荧光层强度下降，以及与玻璃外壳的粘附，导致气泡、条纹、漏光等缺陷产品。
超纯水主要是用来清洗硅片，用少量的水来制取药液、硅氧化物的蒸汽源、部分设备冷却水、电镀液制备等，与集成电路的质量和成材率有密切关系。碱金属(k、 Na等)的存在，会使绝缘膜耐压性能变差，重金属(AU、 Ag、 Cu等)会降低 PN结的耐压性能， III族元素(B、 Al、 GA等)会使 n型半导体的特性恶化， V族元素(P、 as、 Ag、 Cu等)会使 p型半导体的特性恶化，而 V族元素(P、 as、 Ag、 Cu等)会使 p型半导体的特性恶化。水中的粒子(包括细菌)吸附在硅片表面，会导致电路短路或性能不良。
常规超纯水处理工艺是单级/双级反渗透设备+混床。它的缺点是需要再生，不能连续产水，不但效率低，而且浪费资源。
超纯水处理系统应如何维护？
1、超纯水处理系统运行时，设备开启后运行约20分钟，正式投入使用。
2、超纯水处理系统对预处理系统的维护，为了确保及时清除预处理系统中沉积的泥沙、杂质及颗粒，必须对预处理系统进行定期清洗。
3、超纯水处理系统不能超长时间运行，负荷过重会导致设备发生故障，设备也需要劳逸结合。
3、定期记录设备运行参数，以便更及时地发问，如果参数异常，可以更好地分析问题所在。
4、定期清洗膜元件，超纯水处理系统长期运行会有沉淀物附着在反渗透膜元件表面，需要清洗才能恢复产水量。
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