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PR1 1500A1光刻胶厂家规格「赛米莱德」

北京赛米莱德贸易有限公司供应美国Futurrex新型lift-off光刻胶NR9-3000PY,NR9i-3000PY有下面的优势: 1. 比较高的光刻速度,可以定制光刻速度来曝光产量 2. 比较高的分辨率和快的显影时间 3. 根据曝光能量可以比较容易的调整侧壁角度 4. 耐温可以达到100摄氏度 5. 用RR5去胶液可以很容易的去胶 NR9-3000PY的制作和工艺是根据职业
PR1 1500A1光刻胶厂家






北京赛米莱德贸易有限公司供应美国Futurrex新型lift-off光刻胶NR9-3000PY,NR9i-3000PY有下面的优势: 1. 比较高的光刻速度,可以定制光刻速度来曝光产量 2. 比较高的分辨率和快的显影时间 3. 根据曝光能量可以比较容易的调整侧壁角度 4. 耐温可以达到100摄氏度 5. 用RR5去胶液可以很容易的去胶 NR9-3000PY的制作和工艺是根据职业和环境的安全而设计。四、前烘(SoftBake)完成光刻胶的涂抹之后,需要进行软烘干操作,这一步骤也被称为前烘。


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NR9-3000PYPR1 1500A1光刻胶厂家

五、曝光

在这一步中,将使用特定波长的光对覆盖衬底的光刻胶进行选择性地照射。光刻胶中的感光剂会发生光化学反应,从而使正光刻胶被照射区域(感光区域)、负光刻胶未被照射的区域(非感光区)化学成分发生变化。这些化学成分发生变化的区域,在下一步的能够溶解于特定的显影液中。近年来,尽管光刻胶研发有了一定突破,但国产光刻胶还是用不起来。

在接受光照后,正性光刻胶中的感光剂DQ会发生光化学反应,变为乙烯酮,并进一步水解为茚并羧酸(Indene-Carboxylic-Acid, CA),羧酸在碱性溶剂中的溶解度比未感光部分的光刻胶高出约100倍,产生的羧酸同时还会促进酚醛树脂的溶解。利用感光与未感光光刻胶对碱性溶剂的不同溶解度,就可以进行掩膜图形的转移。NR9-3000PY负性光刻胶负胶NR9-3000PY被设计用于i线(365nm)曝光,可使用如步进光刻、扫描投影式光刻、接近式光刻和接触式光刻等工具。

曝光方法:

a、接触式曝光(Contact Printing)掩膜板直接与光刻胶层接触。

b、接近式曝光(Proximity Printing)掩膜板与光刻胶层的略微分开,大约为10~50μm。

c、投影式曝光(Projection Printing)。在掩膜板与光刻胶之间使用透镜聚集光实现曝光。

d、步进式曝光(Stepper)




光刻胶底膜处理:清洗:清洁干燥,使硅片与光刻胶良好的接触。烘干:去除衬底表面的水汽,使其干燥,增粘处理(涂底) 涂上增加光刻胶与硅片表面附着能力的化合物,HMDS,光刻胶疏水,Sio2 空气中,Si-OH, 表面有,亲水性,使用HMDS H2C

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