真空镀膜应用是真空应用中的一个大分支，在光学、电子学、理化仪器、包装、机械以及表面处理技术等众多方面有着十分广泛的应用。
Parylene用的真空气相沉积工艺制备，由活性小分子在基材外观“生长”出完全敷形的聚合物薄膜涂层，它能涂敷到各种外形的外观，包括尖锐的棱边，裂缝里和内外观。这是现代有用的防潮、防霉、防腐、防盐雾涂层材料。
真空镀膜加工工艺中，要求装配到高真空
电路板镀膜工艺
真空镀膜应用是真空应用中的一个大分支，在光学、电子学、理化仪器、包装、机械以及表面处理技术等众多方面有着十分广泛的应用。
Parylene用的真空气相沉积工艺制备，由活性小分子在基材外观“生长”出完全敷形的聚合物薄膜涂层，它能涂敷到各种外形的外观，包括尖锐的棱边，裂缝里和内外观。这是现代有用的防潮、防霉、防腐、防盐雾涂层材料。
真空镀膜加工工艺中，要求装配到高真空环境的零件，事先都需要小心地进行清洗处理，否则各种污染物可成为大量气体和蒸气的来源，会大大延长真空器件的排气时间，不易获得高真空。
真空镀膜它不同于一般水镀着色电镀，具有更，更耐腐蚀、硬度更高等优点，产品不易变色，颜色持久，更能提升产品的档次。
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真空镀膜就是以磁场束缚而延长电子的运动路径,改变电子的运动方向,提高工作气体的电离率和有效利用电子的能量.电子的归宿不仅仅是基片,真空室内壁及靶源阳极也是电子归宿,因为一般基片与真空室及阳极在同一电势.磁场与电场的交互作用使单个电子轨迹呈三维螺旋状,而不是仅仅在靶面圆周运动。高真空蒸镀的镀膜，与膜厚的关系甚小，而且在某个膜厚以56%下，经过一个小的较大值后将迅速减小。
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