湿式研磨与干法研磨的区别湿法研磨与干法研磨的区别
干法研磨指进行研磨作业时物料的含水量不超过4%，而湿法研磨则是将原料悬浮于载体液流中进行研磨，适当添加分散剂等助剂帮助研磨进行。湿法研磨机时物料含水量超过50%时，可克服粉尘飞扬问题。在食品加工上，研磨的物料经常作为浸出的预备操作，使组分易于溶出，故颇适于湿式研磨法。但湿法操作一般消耗能量较干法操作的大，同时设备的磨损也较严重。
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湿式研磨与干法研磨的区别
湿法研磨与干法研磨的区别
干法研磨指进行研磨作业时物料的含水量不超过4%，而湿法研磨则是将原料悬浮于载体液流中进行研磨，适当添加分散剂等助剂帮助研磨进行。湿法研磨机时物料含水量超过50%时，可克服粉尘飞扬问题。在食品加工上，研磨的物料经常作为浸出的预备操作，使组分易于溶出，故颇适于湿式研磨法。但湿法操作一般消耗能量较干法操作的大，同时设备的磨损也较严重。机械干法研磨较难获取亚微米级别的粉体，化学制粉成本高，因此湿法研磨成为制备超细粉体的一个重要手段。从实际应用来看，这两者之间并没有的优劣之分，要根据实际的产品特点及经济效益来选取适当的处理方法。
平面研磨机和平面抛光机的差别
平面研磨机和平面抛光机的差别论
平面研磨机和平面抛光机都是表面处理行业常用到的设备，虽然这两者都是适用于平面的工件，但还是有很多不同的，接下来就从以下几个方面来阐述它们之间的差别。
首先是用途上的差别，平面研磨机主要用于LED蓝宝石衬底、光学玻璃晶片、石英晶片、硅片、诸片、模具、导光板、光扦接头等各种材料的单面研磨、抛光。而平面抛光机是处理平面工件的塌边现象，平滑，斑点，祛除工件表面的划痕，完成超精密加工使工件表面光滑以达到镜面效果。
其次是工作原理的差别，平面研磨机为精密研磨抛光设备，被磨、抛材料放于平整的研磨盘上，研磨盘逆时钟转动，修正轮带动工件自转，重力加压或其它方式对工件施压，工件与研磨盘作相对运转磨擦，来达到研磨抛光目的。而平面抛光机是通过发动机带动磨盘转动，并和在磨盘上自转的工件产生摩擦，运用摩擦产生切削力，将工件表面凹凸不平的地方磨平，来达到抛光目的。
很多对平面研磨机和平面抛光机分不清的朋友看完这篇文章应该有所了解，明白这两者的区别有哪些。平面研磨机和平面抛光机是表面处理的美化师，为我们呈现众多不同的表面美观的工件。
陶瓷研磨机的种类知识分享
陶瓷研磨机的种类知识分享
陶瓷分为很多种，有氧化铝、氧化锆、氮化硼，氮化铝等。不同的材料有着各自的物理特性，在工业生产中运用在不同的行业和产品。用于陶瓷研磨和抛光的陶瓷研磨机也分为很多种，一般按照研磨面分为：陶瓷平面研磨机，陶瓷外圆磨抛机，陶瓷双面研磨机。
磨平面的陶瓷研磨机一般针对的是氧化锆和氧化铝两种陶瓷材料，一般运用于手机盖板，指纹模组，密封环，阀片等液压行业；这种平面陶瓷研磨机能将手机盖板研磨至镜面效果，也能让陶瓷指纹模组的表面平面度达到1u，粗超度0.2nm，是超高精密的一种研磨设备。
磨外圆的陶瓷研磨机一般针对的是氧化锆这种材料，一般是用在陶瓷插芯这种产品上，用于光纤通讯行业。该种外圆磨抛设备研磨氧化锆陶瓷插芯后圆柱度可控制在0.0005mm以内。
而氮化硼是一种更为的材料，目前在工业上是非常炙手可热的，由于它是现今被认知的硬的一种晶体，耐高温，，是耐火材料，也是绝缘材料，所以对工业生产来说它的出现给人带来了惊喜。氮化硼一般用作高科技产品较多，比如航空航天上发动机的喷口，原子反应堆结构材料，散热部件等。
在研磨行业，氮化硼一般用来制作粗磨蓝宝石，氮化铝陶瓷的研磨盘。用氮化硼制作的磨盘硬度高，不易磨损，磨削速度快，耐高温，对所磨材料也不会造成损伤，所以是一种的研磨材料。
陶瓷抛光机所使用磨头的种类
介绍陶瓷抛光机所使用磨头的种类
近年来，随着手机通讯行业的飞速发展，手机竞争也越来越激烈，如何赢得消费者的青睐是各大手机生产商绞尽脑汁在解决的问题，考虑到外观和实用性，近兴起了陶瓷材料作为手机屏和后盖以及触摸指纹，这无疑使得下游生产陶瓷抛光机的企业得到了较大的发展空间，也给陶瓷产业链代带来了丰厚的利润和发展机会。
陶瓷抛光机是一种超高精密抛光设备，它以一种新型的抛磨打蜡机为分析的原形，抛磨机通过磨头的公转和自转，带动研磨盘抛光盘在砖的表面进行抛蜡和研磨运动。它的特点是对脆性材料进行磨削，加工后的表面平整，无划痕，达到镜面光亮而且破损率低。
在陶瓷抛光机抛光运动中，它的关键部件是磨头，目前，陶瓷抛光机所使用的磨头种类大致有三种，供不同阶段选用：
种，摆动式磨头，使用广泛，适合于粗磨和精磨阶段。工作时磨头以420-500转/分钟的速度旋转，磨削时磨块对砖坯是线接触而非面接触；
第二种，滚动式磨头，它与摆动式磨头相比，生产效率可以提高10%以上，主要用于粗磨阶段。工作时磨头以420-500转/分钟的速度旋转；
第三种，旋风磨头，它与滚动式磨头有些相似，但区别也是很明显的，前者使用金刚磨具，并由两具电机驱动，自转高速，公转低速；而后者则是使用普通磨料磨具，仅由一个电机驱动，自转低速，公转高速。它可取代原来的刮平磨头，适用于刮平阶段和粗磨阶段。
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