PVD是英文PhysicalVaporDepsition（物理气相沉积）的缩写，是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用真空镀膜设备气体放电使钛板蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。PVD镀膜通常称谓：金属表面处理，镀膜，镀钛，真空镀钛，镀铬，镀钛加工，PVD，表面处理，钛板，表面处理加工，真空镀
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PVD是英文PhysicalVaporDepsition（物理气相沉积）的缩写，是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用真空镀膜设备气体放电使钛板蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。PVD镀膜通常称谓：金属表面处理，镀膜，镀钛，真空镀钛，镀铬，镀钛加工，PVD，表面处理，钛板，表面处理加工，真空镀膜加工，表面处理等.
1PVD镀膜颜色范围1金色，黄铜色，玫瑰金色，银白色，黑色，古铜色，紫铜色，蓝色等。1表面特征：1外观：纯金属膜，凝重而华丽的金属光泽。1抗腐蚀和氧化性：，不易划伤。1通用性：室内外主要的表面装饰工艺。1良好的可塑性：在弯曲90度以上，不易断裂或脱皮及表面檫伤。1耐抗性：硬度系数超过80RC。1耐久性：表面抛光可维持20年以上2经济性：节约（减少）了一般镀铜（金）板所需清洁磨光的时间和花费，使用一块软布和玻璃清洁剂就可以。2抗破坏性：笔迹和图迹易消除。2环境适应性：防止有害物质的
第二：靶毒的影响因素影响靶中的因素主要是反应气体和溅射气体的比例，反应气体过量就会导致靶*。反应溅射工艺进行过程中靶表面溅射沟道区域内出现被反应生成物覆盖或反应生成物被剥离而重新暴露金属表面此消彼长的过程。如果化合物的生成速率大于化合物被剥离的速率，化合物覆盖面积增加。在一定功率的情况下，参与化合物生成的反应气体量增加，化合物生成率增加。如果反应气体量增加过度，化合物覆盖面积增加，如果不能及时调整反应气体流量，化合物覆盖面积增加的速率得不到抑制，溅射沟道将进一步被化合物覆盖，当溅射靶被化合物全部覆盖的时候，靶完全*，在靶面上沉积一层化合金属膜。使其很难被再次反应。
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