一般生产区工艺清洁要求是什么一般生产区工艺清洁要求是什么？
1）前处理车间的每个操作区域只能处理一种中药材，替换品种时要清场。提取车间的每个操作区域只能寄存一个制剂所有的中药材耗损料，替换制剂时要清场，避免穿插污染和混杂。
2）中药质料按规则进行前处理，处理后装入清洁容器内转入下一道工序。复方混合提取所用中药质料应按一次投料量备料，并按品种规整堆放在每个操作区域规则的方位，经前
天津净化车间工程施工
一般生产区工艺清洁要求是什么
一般生产区工艺清洁要求是什么？
1）前处理车间的每个操作区域只能处理一种中药材，替换品种时要清场。提取车间的每个操作区域只能寄存一个制剂所有的中药材耗损料，替换制剂时要清场，避免穿插污染和混杂。
2）中药质料按规则进行前处理，处理后装入清洁容器内转入下一道工序。复方混合提取所用中药质料应按一次投料量备料，并按品种规整堆放在每个操作区域规则的方位，经前处理加工合格后方可投料。
厂区环境的清洁要求是什么
厂区环境的清洁要求是什么？
1）生产区、生活区、辅助区分开，物流分开。
2）厂区内的清洁设备要清洁、晓畅，无堵塞物及排泄物，由专人及时打扫、消毒。
3）厂内车辆及其他物品须放在规则区域，不得在其他当地任意堆积。
4）厂区环境清洁规整，无杂草和积水、无蚊蝇孳，空气质量契合规则的大气标准。
5）生产区内无废物和废物，厂区外的废物站有必要远离生产区，有隔离消毒办法，并及时清运，不对厂区环境形成污染。
洁净技术方向发展空气分子污染
洁净技术方向发展
空气分子污染（Airborne Molecular Contaminants，AMC）作为IC工厂所关心的问题于20年前由日本人提出，近年来，世界IC技术发展迅速，IC芯片日益微型化。AMC对当前的IC生产其潜在的污染比粒子污染要广泛多，粒子污染控制只需要确定粒径及个数，但对AMC控制而言，除了受芯片线宽的缩小而变化外，并受工艺、工艺设备、工艺材料及传送系统等的影响。更有甚者用于某一工序的各种工艺材料（化学品、特种气体等）在很多情况下其微量的分子残余对下一工序往往可能就是污染物。因此，IC生产过程中的某些加工工序及工序间的材料传送和存放环境中，AMC已成为严重影响成品率的重要问题，AMC分子控制技术成为洁净工程设计与施工建设的主流趋势。目前，国内的洁净工程企业中已经开始从事此方向的研究，在该领域比较的企业有亚翔集成，在分子净化技术方面该公司已经走在了同行业的前列，而电子工程设计院则在防微震方面。
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