真空镀膜加工清除镀膜室内的灰尘，设置清洁度高的工 作间，保持室内高度清洁是镀膜工艺对环境的基本要求。空气湿度大的地区，除镀前要对基片、真空室内各部 件认真清洗外，还要进行烘烤除气。要防止油带入真空室内，注意油扩散泵返油，对加热功率高的扩散泵必须 采取挡油措施。
清洁处理后的清洁表面不能储存在大气环境中，但应储存在封闭的容器或清洁柜中，以减少灰尘污染。通过将玻璃基板储存在新
parylene镀膜公司
真空镀膜加工清除镀膜室内的灰尘，设置清洁度高的工 作间，保持室内高度清洁是镀膜工艺对环境的基本要求。空气湿度大的地区，除镀前要对基片、真空室内各部 件认真清洗外，还要进行烘烤除气。要防止油带入真空室内，注意油扩散泵返油，对加热功率高的扩散泵必须 采取挡油措施。
清洁处理后的清洁表面不能储存在大气环境中，但应储存在封闭的容器或清洁柜中，以减少灰尘污染。通过将玻璃基板储存在新氧化的铝容器中，可以很大限度地减少碳氢化合物蒸汽的吸附。
真空镀膜就是以磁场束缚而延长电子的运动路径,改变电子的运动方向,提高工作气体的电离率和有效利用电子的能量.电子的归宿不仅仅是基片,真空室内壁及靶源阳极也是电子归宿,因为一般基片与真空室及阳极在同一电势.磁场与电场的交互作用使单个电子轨迹呈三维螺旋状,而不是仅仅在靶面圆周运动。高真空蒸镀的镀膜，与膜厚的关系甚小，而且在某个膜厚以56%下，经过一个小的较大值后将迅速减小。
厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位，约为100A)，真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。
厚度均匀性主要取决于：
1、基片材料与靶材的晶格匹配程度
2、基片表面温度
3、蒸发功率，速率
4、真空度
5、镀膜时间，厚度大小。
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