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在模具抛光中，工艺相对复杂，流程可以分为粗抛、半精抛、精抛几步。模具抛光主要用机械抛光来进行是为了得到更好的产量与加工精度，而且相对于其它工艺，在成本上也相对廉宜。
在抛光的过程中，应该分开在两个工作地点来完成粗抛加工和精抛加工，而且要注意清洗干净上一道工序残留在工件表面的砂粒。一般从油石到1200#砂纸完成
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在模具抛光中，工艺相对复杂，流程可以分为粗抛、半精抛、精抛几步。模具抛光主要用机械抛光来进行是为了得到更好的产量与加工精度，而且相对于其它工艺，在成本上也相对廉宜。
在抛光的过程中，应该分开在两个工作地点来完成粗抛加工和精抛加工，而且要注意清洗干净上一道工序残留在工件表面的砂粒。一般从油石到1200#砂纸完成粗抛光后，工件需转移到无尘间进行抛光，确保空气中无灰尘微粒粘在模具表面。如果要进行更为精密的高精密抛光或者超精密抛光，则必须在洁净的空间内。金属表面抛光技术，又称表面整平技术，在整平程度要求很高的特殊情况下则称镜面加工技术。
在抛光工艺完成后，工件表面要做好防护工作，避免工件表面遭到损坏。当抛光过程停止时，应仔细去除所有研磨剂和润滑剂，保证工件表面整洁，随后应在工件表面喷涂一层模具防锈层。
抛光和研磨在磨料和研具材料的选择上不同。抛光通常使用的是1μm 以下的微细磨粒，抛光盘用沥青、石蜡、合成树脂、人造革和锡等软质金属或非金属材料制成。在抛光过程中,除机械切削作用外，加工氛围的化学反应起了重要作用。而研磨使用比较硬的金属盘作研具,材料的破坏以微小破碎为主。的钢材是获得良好抛光质量的前提条件，如果钢材表面硬度不均或特性上有差异，往往会产生抛光困难。
抛光属于用微细磨粒进行的切削加工,因此抛光过程会产生微小的划痕，生成细微的切屑;磨粒与抛光盘对工件有摩擦作用，使得接触点温度上升，工件表面产生塑性流动,形成凹凸不平的光滑表面;抛光剂中的脂肪酸在高温下会产生化学反应,从工件金属表面溶析出金属皂，它是一种易于切除的化合物，起着化学洗涤作用,使工件表面平坦光滑;加工环境中由于尘埃、异物的混人也会产生机械作用。由于这些作用的重叠，以及抛光液、磨粒及抛光盘的力学作用，使得工件表面平滑化。采用工件、磨粒、抛光盘和加工液的不同组合，可实现不同的抛光效果。工件与抛光液、磨料及抛光盘之间的化学反应有助于抛光加工。不锈钢按照结构可以分为奥氏体不锈钢，马氏体不锈钢，铁素体不锈钢。
平面抛光机具有以下几个特点：
1、配备的喷射装置是间隔自动喷射的，其液体间隔喷射时间可以根据需要自由调整；
2、操作、简便，采用的程序控制系统具有触摸操作面板，可以直接在触摸面板上设置研磨盘的转速以及需要工作的时间；
3、只对工件表面进行抛光，对工件的其他部位没有影响；
4、采用气缸加压的方式对工件进行加压处理，其压力大小可以根据需要设置；
5、抛光后的工件无麻点，无斜纹，平面度高，其平面度可以控制在±0.002mm范围内。
平面抛光机可以用于各种材质工件的抛光，适合的行业很多，用途很广，比如航空航天领域、光学玻璃领域、陶瓷行业、电子行业等等，可以抛光的材质有不锈钢材质、合金等各种金属材质，以及光学玻璃、导光板等各种非金属材质。
敏化现象。不锈钢因含有Cr在表面形成氧化铬薄膜，失去化学活性，称为钝化状态，但奥氏体系若经过475~850℃温度范围时，C会与Cr结合生成碳化铬（Cr23C6）析出在晶体边界，因此晶界附近的Cr含量大减，成为贫Cr区。此时，其耐腐蚀性会降低，对腐蚀环境特别敏感，故称为敏化现象。敏化现象在氧化酸的使用环境容易腐蚀，此外还有焊接热影响区和热间弯曲加工区。PLC的出现，为研磨机、抛光机的飞跃做出了很大的贡献，可以说是一个质的改变。其防治方法有：
a) 在475~850℃温度范围升降时，迅速通过，让Cr没有足够的时间和C结合，无法析出碳化铬。
b) 对已经发生敏化现象的不锈钢施以高温固溶化处理，加热至足以使碳化铬分解的温度（1040~1150℃），然后急速冷却，使碳化铬来不及析出。
c) 选用低碳型不锈钢加入304L、304LN、316L、316LN、316J1L、317L、317LN，使Cr无法与C结合。一般C含量在0.05%以下，焊接便不会产生晶界腐蚀，但须特别注意清洁，避免油污等含C物质的污染。在含氢氧酸的混合酸中使用，C含量在0.03%以下。这个环节对石材进行的初始研磨和抛光都是在自动化和化较高的大型设备条件下进行的，所以我们称之大抛光。
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