真空镀膜磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点：利用磁场与电子交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击亚气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。
不管平衡非平衡，若磁铁静止，其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。为增大靶材利用率，可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构，同时溅射速率要减小。旋转磁
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真空镀膜磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点：利用磁场与电子交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击亚气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。
不管平衡非平衡，若磁铁静止，其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。为增大靶材利用率，可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构，同时溅射速率要减小。旋转磁场多用于大型或贵重靶。如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备，多用磁场静止靶源。
1、铜-镍-铬厚度搭配不当；当镍层和铜层的厚度搭配不当时，做冷热循环，因镍层的应力较大，在高温或低温时被释放，这时需要利用铜层的延展性进行分散，当铜层的厚度未能完全分散应力时，造成镀层起泡。
2、粗化不良或者亲水不良；当所用胶件含有PC料或者其他耐火料、增强料等的掺杂，使的粗化时，基材的应力未完全得到施放或者粗化不到位，导致在冷热循环的高温状态时，因镀层和基才的结合力不好，而引起起泡。
镀膜产品的常见问题，部分是镀膜工序的本身造成的，部分是前工程遗留的问题，镀膜终的是整个光学零件加工的（特别是抛光、清洗）的综合反映，对于出现镀膜不良时必须综合考虑，才能真正找到不良产生的原因，对策改善才能取得成效。真空室脏，在开始抽真空时的空气涡流将真空室底板、护板的脏灰带到镜片上，形成灰点层。（膜内，不能擦除，会有点状脱膜）
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