发展在过去我国的洁净技术和设备与国外相比差距是明显的发展
在过去我国的洁净技术和设备与国外相比差距是明显的,我国1965年才开始生产的HEPA过滤器,比国外了十五年。1975年开始生产的光散射尘埃粒子计数器比国外晚了二十年。0.1微米洁净技术和设备在国际上已成为成熟技术,我国则刚刚起步。
在洁净室建设规模和技术水平上,我国与差距更大。日本清水建设
天津洁净车间安装
发展在过去我国的洁净技术和设备与国外相比差距是明显的
发展
在过去我国的洁净技术和设备与国外相比差距是明显的,我国1965年才开始生产的HEPA过滤器,比国外了十五年。1975年开始生产的光散射尘埃粒子计数器比国外晚了二十年。0.1微米洁净技术和设备在国际上已成为成熟技术,我国则刚刚起步。
在洁净室建设规模和技术水平上,我国与差距更大。日本清水建设公司一家,1982年到1987年期间承建的洁净室面积达71.8万平方米,而我国目年承建的洁净室总面积还不到10万平方米,但八五期间有较大发展,1993年承建洁净室总面积已接近15万平方米。美国的洁净室建设规模更大,1998年统计已达188.5万平方米。

洁净技术方向发展空气分子污染
洁净技术方向发展
空气分子污染(Airborne Molecular Contaminants,AMC)作为IC工厂所关心的问题于20年前由日本人提出,近年来,世界IC技术发展迅速,IC芯片日益微型化。AMC对当前的IC生产其潜在的污染比粒子污染要广泛多,粒子污染控制只需要确定粒径及个数,但对AMC控制而言,除了受芯片线宽的缩小而变化外,并受工艺、工艺设备、工艺材料及传送系统等的影响。更有甚者用于某一工序的各种工艺材料(化学品、特种气体等)在很多情况下其微量的分子残余对下一工序往往可能就是污染物。因此,IC生产过程中的某些加工工序及工序间的材料传送和存放环境中,AMC已成为严重影响成品率的重要问题,AMC分子控制技术成为洁净工程设计与施工建设的主流趋势。目前,国内的洁净工程企业中已经开始从事此方向的研究,在该领域比较的企业有亚翔集成,在分子净化技术方面该公司已经走在了同行业的前列,而电子工程设计院则在防微震方面。

气流模式及压力分布菌落
气流模式及压力分布
菌落作为微粒会按空气的方向和速度运动,因此控制气流的形式具有重要的意义,气流的控制应该是两个层次的:一个是总体的,一个是局部的。总体控制即控制手术部内各房间,即手术室和其相邻的房间之间的运动。气流要依手术部的布置而设计,有一个重要的原则是:气流要从洁净的房间流向次洁净的房间,因此气流必须由手术室流向洁净走道,确保污染物不会,按实际经验,I级洁净手术室应保持25Pa正压,II级洁净手术室应保持20Pa正压,III级洁净手术室应保持15Pa正压,IV级洁净手术室应保持10Pa正压,洁净走道应保持5~10Pa正压,当手术室需要负压时应单独设计,建议安装压差传感器以控制手术室内的压差,手术室的地板,墙身,天花板门都必须密封,特殊手术室也可按正负压转换设计,当发生事故时,可马上将手术室由正压转为负压,避免污染室外环境。

衡量洁净室中的噪声控制
洁净室中的噪声控制
洁净室噪声标准一般均严于保护健康的标准,目的在于保障操作正常进行,满足必要的谈话联系及安全舒适的工作环境。因此衡量洁净室的噪声主要指标是:
1.烦恼的效应
由于噪声,使人感到不安宁而产生烦恼情绪,一般分为极安静、很安静、较安静、稍嫌吵闹,比较吵闹和极吵闹7个烦恼等级。凡反应水平属于很吵闹和极吵闹者,即为高烦恼,高烦恼人数在总人数中的百分比即为高烦恼率。
2.对工作效率的影响
这主要看三方面的反应水平,这三个方面是:集中精神,动作准确性,工作速度;
3.对综合通讯的干扰
这主要分为:清楚或满意,稍困难,困难,不可能
对以上三方面指标都用A声级来评价。在50年代曾提出用一条频谱曲线作为评价标准即各频带中心频率的声压级不得超过该曲线。后来了解到刷A等级来计量噪声与噪声的语音干扰和烦恼程度更为台适,可以代替倍频带声压级作为评价标准的指标。
根据建筑科学研究院建筑物理研究所1981年为编制《洁净厂房设计规范》而进行的测定资料,在65dB(A)以下时,只有30%的人感到高烦恼。在65—70dB(A)时,其影响对工作效率的三方面反应表现出较低水平;在60dB(A)以下说话清楚满意.60~75dB(A)时有一定困难,犬于75dB很困难。因此认为洁净室噪声水平以65d)为宜,此时可使高烦恼率小于30%;保证一般通话;对工作效率影响很小

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