薄膜干涉原理广泛应用于光学表面的检验、微小的角度或线度的精密测量、减反射膜和干涉滤光片的制备等。等倾干涉和等厚干涉是薄膜干涉的两种典型形式。聚酯薄膜由薄膜上、下表面反射（或折射）光束相遇而产生的干涉．薄膜通常由厚度很小的透明介质形成．如肥皂泡膜、水面上的油膜、两片玻璃间所夹的空气膜、照相机镜头上所镀的介质膜等比较简单的簿膜干涉有两种，一种称做等厚干涉，这是由平行光入射到厚度变化均匀、折射率均匀的薄
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薄膜干涉原理广泛应用于光学表面的检验、微小的角度或线度的精密测量、减反射膜和干涉滤光片的制备等。
等倾干涉和等厚干涉是薄膜干涉的两种典型形式。
聚酯薄膜
由薄膜上、下表面反射（或折射）光束相遇而产生的干涉．薄膜通常由厚度很小的透明介质形成．如肥皂泡膜、水面上的油膜、两片玻璃间所夹的空气膜、照相机镜头上所镀的介质膜等比较简单的簿膜干涉有两种，一种称做等厚干涉，这是由平行光入射到厚度变化均匀、折射率均匀的薄膜上、下表面而形成的干涉条纹．薄膜厚度相同的地方形成同条干涉条纹 次数用完API KEY 超过次数限制
CeO2
使用高密度的钨舟皿（较早使用）蒸发，在200℃的基板上蒸着CeO2，得到一个约为2.2的折射率，在大约3000nm有一吸收带其折射率随基板温度的变化而发生显著变化，在300℃基板500nm区域折射率为2.45，在波长短过400nm时有吸收，传统方法蒸发缺乏紧密性，用氧离子助镀可取得n=2.35（500nm）的低吸收性薄膜，一般为颗粒状，还可用一增透膜和滤光片等。透光范围（nm) 折射率（N) 500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量
400--16000 2.35 约2000 电子枪 防反膜， 多 次数用完API KEY 超过次数限制
另外有胶补法，把破洞四周洗干净，用毛刷蘸胶水涂抹，过3-5分钟后，取一块质地相同的薄膜贴在上面，胶水干后即可粘牢。热补法和胶补法补膜效果好，缝补法不但漏气，而且容易拉开，对质地不是较厚的薄膜好不用。
不用时挖坑埋藏薄膜在收藏期间，要严烟熏、火烤，否则，其使用寿命会大大缩短。棚膜好的储存方法是挖坑埋藏，生产结束后，拆下的薄膜要先洗干净晾干，卷好后用旧薄膜包裹起来，选择土壤干湿度适中的地方挖一个坑，然后把包裹好的薄膜放进坑内埋藏。注意，薄膜上层离地面的距离在 30厘米以上。此法可避免农膜在空气中存放老化发脆，而缩短使用寿命。 次数用完API KEY 超过次数限制
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