Parylene 材料
Parylene N，聚对二甲苯。将二中的一个氢原子用一个氯原子所取代，就得到Parylene C；将其中两个芳香烃氢原子被氯原子取代，就得到Parylene D；苯环上的4个氢原子被氟取代，即可得Parylene F；而将二上的H原子替换为F原子，就得到HT型Parylene。
性能和用途
Parylene N是一种很好的
真空镀膜工艺
Parylene 材料
Parylene N，聚对二甲苯。将二中的一个氢原子用一个氯原子所取代，就得到Parylene C；将其中两个芳香烃氢原子被氯原子取代，就得到Parylene D；苯环上的4个氢原子被氟取代，即可得Parylene F；而将二上的H原子替换为F原子，就得到HT型Parylene。
性能和用途
Parylene N是一种很好的介电材料，具有非常低的介质损耗、高绝缘强度以及不随频率变化的介电常数。它是所有Parylene中穿透能力高的一种，有很好的自润滑性，摩擦系数为0.25。符合ISO-10993生物试验要求，符合UDP第六类塑料的生物试验要求。
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，包括真空离子蒸发镀膜机、磁控溅镀膜机射、MBE分子束外延镀膜机和PLD激光溅射沉积镀膜机等很多种。主要是分成蒸发和溅射两种。在真空镀膜设备中需要镀膜的被成为基片，镀的材料被成为靶材。基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程形成薄膜。
真空镀膜设备由许多不同的零件组成，它们都是经过各种机械加工完成的，例如车铣、刨、磨、镗、焊接等。这样，零件表面不可避免地会沾上许多加工油脂、汗痕、抛光膏、焊剂、金属屑、油垢等污染物。这些污染物在真空中易挥发，影响真空镀膜设备的极限压力和性能稳定性。此外，污染物在大气压下吸附了大量的气体，在真空环境中，这些气体也要被释放出来，构成了限制真空镀膜设备极限压力的因素。为此，零件组装前必须清除掉污染物。
真空镀膜机组成结构是怎样的？一台完整的真空镀膜机是由多部分系统组成的，每个系统可以完成不同的功能。
镀膜方式也分多种工艺，常用的有离子蒸发镀膜和磁控溅射镀膜。磁控溅射方式镀制的膜层附着力强，膜层的纯度高，可以同事溅射多种不同成分的材料，离子蒸发镀膜可以提高膜层的致密性和结合力及均匀性。
真空镀膜机镀膜原理一般是根据实际产品工艺需求定制。
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