等离子纳米抛光是一种全新的金属表面处理工艺——仅在工件表面的分子层与等离子反应，分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米，处理深度为0.3-1.5纳米。抛光物的表面粗糙度在1mm范围内，因此等离子纳米抛光处理可以化学活化工件表面，去除表面分子污染层，交叉链接表面化学物质。进一步研发出纳米抛光液配方，在抛光液成本上进一步降低，使抛光效果进一步优化
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等离子抛光加工厂家
等离子纳米抛光是一种全新的金属表面处理工艺——仅在工件表面的分子层与等离子反应，分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米，处理深度为0.3-1.5纳米。抛光物的表面粗糙度在1mm范围内，因此等离子纳米抛光处理可以化学活化工件表面，去除表面分子污染层，交叉链接表面化学物质。进一步研发出纳米抛光液配方，在抛光液成本上进一步降低，使抛光效果进一步优化
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如此精湛的技术抛光后的效果如何呢
经过多方对比之后发现，突破后的技术抛光出的产品就好像一面镜子，表面光亮，无暇，光滑，和电镀后的效果几乎无异。
内孔抛光是机械加工术语，又叫深孔抛光。主要是通过机械、电火花、电化学、电解质等离子抛光等方法使内孔粗糙度降低、光亮度提升的加工方法。
采用手工抛光和等离子抛光相结合的办法。即采用手工开初去掉表面压印和橘皮。留下很深的麻轮纹路采用很细的线轮纹路去除。这个时候留下的线轮纹路采用等离子抛光去除。效果为表面镜光无任何纹路，表面棱角处产生R角有利于和其他部件的配合，尤其是按键。对工件的里面一样抛光光亮。
为什么用等离子抛光后产品更耐腐：等离子抛光和传统抛光不一样。传统抛光是用机械的方式让产品表面产生高温、在加上抛光轮配合抛光蜡与产品表面摩擦产品表层有塑性糯变抛平的、并没有改变原来的成分，其他磁力研磨、震动研磨类似、电解抛光是把工件表面均匀剥掉一层。尔等离子抛光是在抛光的同时将产品表层提纯、将杂质拿掉、使表层更加致密、所以在性耐性测试上跟优越于传统抛光。
等离子抛光适用的范围：由于等离子抛光在工作时的能耗比较大就决定它优势适用于体积小产品，离子有个特点、无遮挡直线能达到的地方均能抛光，这个特点就决定等离子抛光对异型件、复杂面、不规则面可以做到均匀抛光、这是等离子抛光的优势、且操作简单。等离子抛光的条件：等离子要运用在抛光上面是需要具备一定的条件才可以做抛光的，首先要产生等离子必须要有电场存在、换句通俗的话来说要有电源存在。
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