离子镀膜设备的操作规范是怎样的离子镀膜设备的操作规范是怎样的？
1、设备中的真空管道、静态密封零部件（法兰、密封圈等）的结构形式，应符合GB/T6070的规定。
2、在低真空和高真空管道上及真空镀膜室上应安装真空测量规管，分别测量各部位的真空度。当发现电场对测量造成干扰时，应在测量口处安装电场屏蔽装置。
3、如果设备使用的主泵为扩散泵时，应在泵的进气口一侧装设有油蒸捕
高真空镀膜设备
离子镀膜设备的操作规范是怎样的
离子镀膜设备的操作规范是怎样的？
1、设备中的真空管道、静态密封零部件（法兰、密封圈等）的结构形式，应符合GB/T6070的规定。
2、在低真空和高真空管道上及真空镀膜室上应安装真空测量规管，分别测量各部位的真空度。当发现电场对测量造成干扰时，应在测量口处安装电场屏蔽装置。
3、如果设备使用的主泵为扩散泵时，应在泵的进气口一侧装设有油蒸捕集阱
4、设备的镀膜室应设有观察窗，应设有挡板装置。观察窗应能观察到沉积源的工作情况以及其他关键部位。
5、离子镀沉积源的设计应尽可能提高镀膜过程中的离化率，提高镀膜材料的利用率，合理匹配沉积源的功率，合理布置沉积源在真空室体的位置。
6、合理布置加热装置，一般加热器结构布局应使被镀工件温升均匀一致。
7、工件架应与真空室体绝缘，工件架的设计应使工件膜层均匀。
8、离子镀膜设备一般应具有工件负偏压和离子轰击电源，离子轰击电源应具有抑制非正常放电装置，维持工作稳定。
真空镀膜机真空器件的常用检漏方法
真空镀膜机真空器件的常用检漏方法
依据电真空器材的结构特色及丈量精度要求，常用的有两种检漏办法，即氦罩法和喷吹法（这两种检漏办法具体介绍可见：氦罩法和喷吹法的氦质谱检漏仪检漏常见办法）。检漏时，先用氦罩法进行总漏率的测定，当总漏率超出答应值后再用喷吹法进行漏孔的认位。
氦罩法是被检件与检漏仪衔接抽真空到达检漏状况后，用一个充溢氦气的查验罩，把被检件全体或部分的表面面包围起来，如图4所示。查验罩充氦时先将罩内空气排出再充氦，以确保罩内氦浓度尽可能挨近100百分之，被检件上任何地方有走漏。
检漏仪都会有漏率值改变，显示出漏率值。氦罩时刻也要继续3~5倍检漏仪呼应时刻。ASM192T2氦质谱检漏仪反应时刻小于0.5s,因而氦罩时刻30s即可。氦罩法可方便地测定被检件总漏率，不会漏掉任何一处漏点，但不能确认漏孔方位。
喷吹法是将被检件与仪器的真空体系相连，对被检件抽真空后用喷枪向漏孔处吹喷氦气。当有漏孔存在时，氦气就经过漏孔进入质谱仪被检测出，喷吹法弥补了氦罩法不能定位的缺点。
真空镀膜机中钨丝的用途
真空镀膜机中钨丝的用途：
钨丝是真空镀膜机中不可或缺的材料，下面为大家讲一下这种材料的使用用途。
钨丝除少量用作高温炉的发热材料、电子管的热子和复合材料的加强筋等外，绝大部分都用于制作各种白钨丝炽灯和卤钨灯的灯丝以及气体放电灯的电极。对用作气体放电灯阴极的钨丝或钨杆，为降低其电子逸出功，须加入0.5～3％的钍，称为钨钍丝。由于钍是一种性元素，污染环境，故有用来代替钍作成钨丝或钨杆的。但的蒸发率高，所以钨丝或钨杆只能用于小功率的气体放电灯。
真空镀膜机中钨丝的注意事项
真空镀膜机中钨丝的注意事项：
钨在常温下有较好的耐酸、碱能力，但在潮湿的空气中易被氧化，所以细钨丝不能在潮湿环境中贮存过久。另外钨在1200℃上下就开始与碳起反应生成钨的碳化物，所以对灯丝的烧氢处理要注意这个问题，否则钨与其表面的石墨润滑剂起反应，则灯丝就要变脆断裂。
钨丝一旦经高温使用发生再结晶以后就变得很脆，在受冲击或震动的情况下极易断裂。在一些要求高可靠性的电光源产品中，为防止灯丝的断裂，常在掺杂钨丝中加入3～5％的铼，称为钨铼丝，它可以使钨的延脆转变温度下降到室温或室温以下。这是一种很奇特的铼效应，至今还未发现一种元素能代替铼，在钨中产生同样效应。
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