氮化硼具有抗化学侵蚀性质，不被无机酸和水侵蚀。在热浓碱中硼氮键被断开。1200℃以上开始在空气中氧化。熔点为3000℃，稍3000℃时开始升华。真空时约2700℃开始分解。微溶于热酸，不溶于冷水，相对密度2.25。压缩强度为170MPa。在氧化气氛下使用温度为900℃，而在非活性还原气氛下可达2800℃，但在常温下润滑性能较差。
碳化硼的大部分性能比碳素材料更优。对于六方氮化
微米氮化硼批发
氮化硼具有抗化学侵蚀性质，不被无机酸和水侵蚀。在热浓碱中硼氮键被断开。1200℃以上开始在空气中氧化。熔点为3000℃，稍3000℃时开始升华。真空时约2700℃开始分解。微溶于热酸，不溶于冷水，相对密度2.25。压缩强度为170MPa。在氧化气氛下使用温度为900℃，而在非活性还原气氛下可达2800℃，但在常温下润滑性能较差。
碳化硼的大部分性能比碳素材料更优。对于六方氮化硼：摩擦系数很低、高温稳定性很好、耐热震性很好、强度很高、导热系数很高、膨胀系数较低、电阻率很大、耐腐蚀、可透微波或透红外线。物质结构氮化硼六方晶系结晶，常见为石墨晶格，也有无定形变体除了六方晶型以外，碳化硼还有其他晶型，包括：菱方氮化硼(简称：r—BN，或称：三方氮化硼，其结构类似于h—BN，会在h—BN转化为c—BN的过程中产生)、立方氮化硼[简称：c—BN，或|3一BN，或z-BN(即闪锌矿型氮化硼)，质地非常坚硬]
苯热合成法作为近年兴起的一种低温纳米材料合成方法，苯热合成受到广泛关注。苯由于其稳定的共轭结构，是溶剂热合成的优良溶剂，近成功地发展成苯热合成技术，如反应式：BCl3+Li3N→BN+3LiCl或BBr3+Li3N→BN+3LiBr反应温度只有450℃，苯热合成技术可以在相对低的温度和压力下制备出通常在条件下才能制得的、在超高压下才能存在的亚稳相。这种方法实现了低温低压制备立方氮化硼。但是这种方法尚处于实验研究阶段，是一种很有应用潜力的合成方法。
离子束溅射技术利用粒子束溅射沉积技术，得到立方氮化硼和六方氮化硼的混合产物。这种方法虽然杂质较少，但是由于反应条件难以控制，因此产物的形态难以控制，对这种方法的研究还有很大的发展潜力。激光诱发还原法用激光作为外加能源，诱发反应前驱体之间的氧化还原反应，并使B和N结合从而生成氮化硼，但是这种方法得到的也是混合相。 [5]
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