苏州工业园区诺泰盈电子有限公司是一家从事EMI材料/绝缘材料/缓冲泡棉材料/散热型材料及各种双面胶材料深加工的企业。
显影液常见问题
a、显影不完全（Incomplete Development）。表面还残留有光刻胶。由显影液不足造成。
b、显影不够（Under Development）。显影的侧壁不垂直。由显影时间不足造成。
c、过度显影（Over
显影液密度
苏州工业园区诺泰盈电子有限公司是一家从事EMI材料/绝缘材料/缓冲泡棉材料/散热型材料及各种双面胶材料深加工的企业。
显影液常见问题
a、显影不完全（Incomplete Development）。表面还残留有光刻胶。由显影液不足造成。
b、显影不够（Under Development）。显影的侧壁不垂直。由显影时间不足造成。
c、过度显影（Over Development）。靠近表面的光刻胶被显影液过度溶解，形成台阶。由显影时间太长造成。
显影液组成成分的作用与显影液的配方
甘氨酸是作用极慢的，可洗出软影调低反差的底片，能够很好地表现阴影部位上的细部，而灰雾度很小。甘氨酸可用作制备微粒显影用平衡显影液。有经验的摄影师使用新制备的显影液中冲洗工作胶片之前，冲洗数米长已露光的胶片。甘氨酸不易溶于水，而易溶于碱性溶液中。长期以来，一直使用休贝尔浓缩液， 这是甘氨酸显影液的浓缩溶液，很易于贮存。甘氨酸常被 用来与米吐尔、二酚及菲尼酮配合使用。
土吐尔与二酚相配合可作成通用显影液，冲洗底片和正片对氨基酚用作在弱碱溶液中作为软影调显影物质。对氨基酚的浓缩液与苛性碱相配合可作成玫红醇型通用显影液。将此种显影波溶于不同量的水中可形成性质各异的多种显影液，从很强力的高反差显影液至软调的平衡显影液。当进行均衡显影时，底片过度曝光部位的感光度被降低，而曝光不足部位的感光度被提高。对氨基酚显影液的特点是，具有很高的显影选择性；甚至在长时间显影及很高温度下，对氨基酚显影液也不会洗出很强的灰雾。浓缩显影液易于保存。但是，在稀释状态下很易于氧化，并且氧化生成物会使乳剂层着色。
由于含有高浓度的显影物质及碱，显影液会迅速被氧化，所以在一切活性显影液中，均含有较多量的保护物质(亚硫酸钠)此种显影液主要用于翻拍工作及印刷业中，供洗印高反差的线条影像。有一些型号的胶片用反差显影液冲洗可使反差系数达到r=3-4。显影液组成成分的作用与显影液的配方普通显影液有时也称为通用显影液，其特点是具有中等活性，即可用于冲洗底片感光材料，又可用于冲洗正片感光材料。用反差显影液冲洗的影像，会使微粒结构变坏、粒度增大，并加重了光晕及边缘效应，尤其是在错误曝光时。反差显影影像的宽容度是很小的。反差显影液也常用于反差原件翻印。
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