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合肥液氩厂咨询客服「多图」

液 - 用途 高纯在半导体工业中用作生产高纯硅和锗晶体的保护气体;可用作系统清洗、屏蔽和增压用惰性气体;在化学气相沉积、溅射和退火等工艺中有所应用。 液用途: 气主要的用处就是它的惰性,可以保护一些容易与周围物质发生反应的东西。用作灯泡制作中的保护气体;金属焊接的保护气体 液应用 用来替代空
液氩厂














液 - 用途

高纯在半导体工业中用作生产高纯硅和锗晶体的保护气体;可用作系统清洗、屏蔽和增压用惰性气体;在化学气相沉积、溅射和退火等工艺中有所应用。

液用途:

气主要的用处就是它的惰性,可以保护一些容易与周围物质发生反应的东西。用作灯泡制作中的保护气体;金属焊接的保护气体

液应用

用来替代空气或氮气,在铝的制造过程中产生惰性气氛;在脱气过程中帮助去除不需要的可溶气体;以及去除熔铝中溶解氢和其它颗粒。

















液罐使用注意事项

结束时(下班)需要关紧有关阀门并放松调压阀,确认场地安全无火种后整理场地,保持整洁。

液贮槽使用前的准备工作

吹除处理:气密性试验合格后,需要干燥无油的空气对贮槽内筒系统进行吹除处理,用以去除潮湿空气,系统在用干燥空气或氮气吹除之后,还应用产品气体吹除,直到排除气体纯度打到要求为止。



关于液氩的应知晓的消防知识与防护措施灭火方法及灭火剂:用水冷却火中容器。用与着火环境相适应的灭火剂。若条件允许可能的话将容器从火场移至空旷无人处。高纯液氩极易挥发,在使用的过程中要保持密封的,将其放置在通风条件良好的地方,防止其泄露后产生的气体散发到工作环境中。高纯氩在半导体工业中用作生产高纯硅和锗晶体的保护气体;可用作系统清洗、屏蔽和增压用惰性气体;在化学气相沉积、溅射和退火等工艺中有所应用。



液氩 无色、无味、无臭、无毒的惰性气体,化学性质极不活泼。在21.1℃和101. 3kPa下气体相对密度1.38。气体密度1- 650kg.m-3 (21.1℃,101. 3kPa),液体密度1394.Okg.m-3(一185.9℃,101. 3kPa)。液氩贮槽使用前的准备工作气密性试验:贮槽完成安装,或者内筒恢复常温后,在充入低温液体前应进行系统气密性试验,试验压力为贮槽的工作压力,试验用气为无油干燥空气或干氮气,试验时间不得小于4小时。氩气主要的用处就是它的惰性,可以保护一些容易与周围物质发生反应的东西。用作灯泡制作中的保护气体;金属焊接的保护气体;





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