PVD是英文PhysicalVaporDepsition（物理气相沉积）的缩写，是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用真空镀膜设备气体放电使钛板蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。PVD镀膜通常称谓：金属表面处理，镀膜，镀钛，真空镀钛，镀铬，镀钛加工，PVD，表面处理，钛板，表面处理加工，真空镀
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PVD是英文PhysicalVaporDepsition（物理气相沉积）的缩写，是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用真空镀膜设备气体放电使钛板蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。PVD镀膜通常称谓：金属表面处理，镀膜，镀钛，真空镀钛，镀铬，镀钛加工，PVD，表面处理，钛板，表面处理加工，真空镀膜加工，表面处理等.
PVD膜层可镀材料广泛，与基体结合力强。经济，可减少清洗和擦亮电镀黄铜或金色所必须的时间和成本。高真空离子镀膜技术——对人体和生态环境真正无害。对环境无害，避免化学毒，可以使用在内装修或者室外，膜层具有生物兼容性用途广泛，现在主要应用于航空航天，耐高温，高压，抗磨损零件，刀具模具，日用五金，3C电子配件，建筑装饰，电工电子，医学等
随着经济的发展，普通玻璃已越来越不能满足人们的要求，而阳光控制膜和低辐射膜正好能弥补了普通玻璃在这一方面的不足。阳光控制膜可以满足低纬度地区降低室内温度的要求；而低辐射膜则能满足高纬度地区充分接受太阳辐射能量和大限度阻止室内热量外流的要求。在玻璃上，镀涂一层TiO2就能使其变成防雾、防露和自清洁玻璃，这种工艺在汽车玻璃上有很好的应用。
离子镀膜膜层的成分来源于镀料，或者说来源于蒸发源和溅射靶的材料以及反应气体。这些沉积物的物种及其比例，在沉积过程要稳定供给。离子镀膜膜层的组织结构除了决定于沉积物料的成分外，还取决于沉积粒子的能量、粒子入射角度和基体温度等，在沉积过程中要求保持一致。离子镀膜膜层的厚度取决沉积物的总量，当然以膜致密度相同为前提。
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