脉冲激光沉积简介
脉冲激光沉积，就是将激光聚焦于靶材上一个较小的面积，利用激光的高能量密度将部分靶材料蒸发甚至电离，使其能够脱离靶材而向基底运动，进而在基底上沉积，从而形成薄膜的一种方式。 在众多的薄膜制备方法中，脉冲激光沉积技术的应用较为广泛，可用来制备金属、半导体、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各种物质薄膜，甚至还用来制备一些难以合成的材料膜
脉冲激光沉积设备公司
脉冲激光沉积简介
脉冲激光沉积，就是将激光聚焦于靶材上一个较小的面积，利用激光的高能量密度将部分靶材料蒸发甚至电离，使其能够脱离靶材而向基底运动，进而在基底上沉积，从而形成薄膜的一种方式。 在众多的薄膜制备方法中，脉冲激光沉积技术的应用较为广泛，可用来制备金属、半导体、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各种物质薄膜，甚至还用来制备一些难以合成的材料膜，如金刚石、立方氮化物膜等。主要用途：用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。
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脉冲激光沉积细节介绍
很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧气压力（>100 Torr）下冷却是有利的。所有Pioneer 系统设计的工作压力范围。从它们的额定初始压力到大气压力。这也有益于纳米粒子的生成。
Pioneer PLD 系统的激光束入射角为45°，保持了激光密度在靶材上的均匀性，同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。浅的入射角能够拉长靶材上的激光斑点，导致密度均匀性的损失。
为了避免使用昂贵的与氧气兼容的真空泵流体，消除油的回流对薄膜质量的影响，所有Pioneer 系统的标准配置都采用无油真空系统。
我们的研究表明靶和基片的距离是获得较佳薄膜质量的关键参数。Pioneer 系统采用可变的靶和基片的距离，对沉积条件进行较大的控制。
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常规沉积条件下的组合合成
脉冲激光沉积系统特点及优势：
可根据客户需求定制产品，灵活性高，并提供的技术支持；靶台可以安装6个靶位，靶材更换灵活；样品台样品尺寸从10x10mm样品到2英寸样品均适用；进样室可以存储多个靶和样品；交易过程无需繁琐的进、出关手续, 交货期短，；
沈阳鹏程真空技术有限责任公司拥有的技术，我们都以质量为本，信誉高，我们竭诚欢迎广大的顾客来公司洽谈业务。如果您对脉冲激光沉积感兴趣，欢迎点击左右两侧的在线客服，或拨打咨询电话。
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