小型自动磁控溅射仪
沈阳鹏程真空技术有限责任公司——磁控溅射产品供应商，我们为您带来以下信息。
1. 溅射室极限真空度：≤6.6×10-6 Pa
2. 系统真空检漏漏率：≤5.0×10-7Pa.l/S
3. 系统从大气开始抽气：溅射室30分钟可达到6.6×10-4 Pa；
4. 系统停泵关机12小时后真空度：≤5Pa
5. 溅射真空室1套
多靶磁控溅射仪公司
小型自动磁控溅射仪
沈阳鹏程真空技术有限责任公司——磁控溅射产品供应商，我们为您带来以下信息。
1. 溅射室极限真空度：≤6.6×10-6 Pa
2. 系统真空检漏漏率：≤5.0×10-7Pa.l/S
3. 系统从大气开始抽气：溅射室30分钟可达到6.6×10-4 Pa；
4. 系统停泵关机12小时后真空度：≤5Pa
5. 溅射真空室1套，立式上开盖结构，尺寸不小于Ф300mm×300mm，全不锈钢结构，弧焊接，表面进行电化学抛光，内含防污内衬，可内烘烤到100～150℃，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封，腔体内有照明系统
6. 磁控溅射系统 3套， 提供3块测试靶材。镀膜不均匀度≤5%
7. 旋转基片台 1套，样品台可放置不小于100mm样品1片，具有连续旋转功能，旋转0—30转/分连续可调。基片加热温度：室温—500°C连续可调，由热电偶闭环反馈控制，加热电源配备控温表，控温方式为PID自动控温及数字显示
8. 观察窗口及法兰接口部件 1套
9. 工作气路1套，包含：100SCCM、20SCCM质量流量控制器、CF16截止阀、管路、接头等共2路； DN16充气阀、管路、接头等2路；
10. 抽气机组及阀门、管道 1套，包含1台进口复合分子泵及变频控制电源（680L/s ，德国普发Hipace700分子泵）；原理是将扩散泵油加热至沸腾，气化的油雾通过喷油嘴向四周喷射，扩散泵的四周有冷却水管或者水套，将喷射的油雾冷却液化流下至泵的底部循环。1台机械泵（4L/S） ，1台DN40气动截止阀，机械泵与真空室之间的旁抽管路1套，CC150气动闸板阀1台（用于复合分子泵与真空室隔离），节流阀1台，DN40旁抽气阀1台，压差式充气阀1台；管道采用不锈钢三通及波纹管，
11. 安装机台架组件 1套，由方钢型材焊接成，快卸围板表面喷塑处理，机台表面用不锈钢蒙皮装饰，四只脚轮，可固定，可移动。
线列式磁控生产线
沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产、销售磁控溅射产品，我们为您分析该产品的以下信息。
采用的in-line产线结构，Twin-Mag孪生阴极磁控溅射技术，并配以全自动控制系统、的真空系统，可在玻璃衬底上镀制SiO2、ITO、AZO、Al、Ni、Ti等各类绝缘介质薄膜、金属或合金薄膜，并可连续溅镀多种不同材质的薄膜构成复合多膜层结构，适合大规模光学、电学薄膜的生产，做到一机多用具有高能效、高可靠性、低成本的优势。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。
本产品可广泛应用于触摸屏ITO镀膜、LCD显示屏ITO镀膜、薄膜太阳能电池背电极及AZO镀膜、彩色滤光片镀膜、电磁屏蔽玻璃镀膜、AR镀膜、装饰镀膜等产业领域。
小型磁控溅射镀膜系统简介
小型磁控溅射镀膜系统适合于溅射镀膜科研、教学与小批量打样，可、低成本的制备多种微纳米厚度的膜层。
具有一体化、占用空间小、灵活的特点，无需380V工业电，无需额外冷水机，采用无油干泵分子泵组，无需操心真空系统和操作间环境泵油污染。
保证设备具有优异的质量与稳定可靠性。触摸屏控制界面，带来简单、操作方便的体验。
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