蚀刻技术可以分为湿蚀刻和干蚀刻两类。
早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版，也广泛地被使用于减轻重量仪器镶板，铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工；经过不断改良和工艺设备发展，
显影是印刷、影印、复印、晒图等行业中，让影像显现的一个过程。正显影时，显影色粉所带电荷的极性，与感光鼓表面静电潜像的电荷极性相反。显影时，显影套筒开始旋转，
曝光：经光源作用将原始底片上的图像转移到感光
圆弧面曝光显影抛光
蚀刻技术可以分为湿蚀刻和干蚀刻两类。
早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版，也广泛地被使用于减轻重量仪器镶板，铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工；经过不断改良和工艺设备发展，
显影是印刷、影印、复印、晒图等行业中，让影像显现的一个过程。正显影时，显影色粉所带电荷的极性，与感光鼓表面静电潜像的电荷极性相反。显影时，显影套筒开始旋转，
曝光：经光源作用将原始底片上的图像转移到感光底板（即PCB）上.
显影：通过碱液作用,将未发生光聚合反应之感光材料部分冲掉.
圆弧面曝光显影抛光
曝光显影工艺是3d镜片产品装饰选用的一种后制程装饰方案。在玻璃、有机玻璃、蓝宝石与注塑件等3d产品(如前盖、嵌件、装饰件等)加工工艺过程中，都会涉及到曝光显影工艺！PCB曝光工艺和半导体工艺曝光工艺条件不一样，PCB通常是贴合式曝光，曝光是没有距离的，但现在的盖板是3D曲面盖板，它的曝光，通常来说MASK它跟产品有一定的距离，这个距离会造成一定的偏差，所以它的工艺是有难点的。目前的这项工艺还存在CG成型公差、掩膜版（MASK）公差、掩膜版转印公差、CG与掩膜版定位偏差、与光源平行度5个难点。圆弧面曝光显影抛光
东莞市清溪利成曝光显影，主加工各种亮面手机壳LOGO,充电宝,耳机外壳,保温杯,各种亮面标牌，各种凹凸面.弧度面.拉丝面上LOGO，欢迎来料打样.洽谈。正显影时，显影色粉所带电荷的极性，与感光鼓表面静电潜像的电荷极性相反。显影时，在感光鼓表面静电潜像是场力的作用下，色粉被吸附在感光鼓上。静电潜像电位越高的部分，吸附色粉的能力越强；圆弧面曝光显影抛光
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