等离子纳米抛光是一种全新的金属表面处理工艺——仅在工件表面的分子层与等离子反应，分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米，处理深度为0.3-1.5纳米。抛光物的表面粗糙度在1mm范围内，因此等离子纳米抛光处理可以化学活化工件表面，去除表面分子污染层，交叉链接表面化学物质。进一步研发出纳米抛光液配方，在抛光液成本上进一步降低，使抛光效果进一步优化
等其他要
电解等离子抛光
等离子纳米抛光是一种全新的金属表面处理工艺——仅在工件表面的分子层与等离子反应，分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米，处理深度为0.3-1.5纳米。抛光物的表面粗糙度在1mm范围内，因此等离子纳米抛光处理可以化学活化工件表面，去除表面分子污染层，交叉链接表面化学物质。进一步研发出纳米抛光液配方，在抛光液成本上进一步降低，使抛光效果进一步优化
等其他要求精度高标准的行业
如此精湛的技术抛光后的效果如何呢
经过多方对比之后发现，突破后的技术抛光出的产品就好像一面镜子，表面光亮，无暇，光滑，和电镀后的效果几乎无异。
虽说抛光时间相对增加，但任然不会伤到基材表面，相反会大大增加返镀的良率（因为等离子抛光能很好提高表面的光泽度，降低表面粗糙度，使表面平滑，光洁，导电性能好）。
等离子抛光的确是真空镀膜或真空镀膜前处理不可缺少的工艺，并且他也将以对人体无伤害，对环境无污染，成本低的优势压倒电解工艺，同时也为真空镀膜或真空镀膜解除更多的不良因素，为真空镀膜或真空镀膜出的产品而多做贡献。
内孔抛光是机械加工术语，又叫深孔抛光。主要是通过机械、电火花、电化学、电解质等离子抛光等方法使内孔粗糙度降低、光亮度提升的加工方法。
采用手工抛光和等离子抛光相结合的办法。即采用手工开初去掉表面压印和橘皮。留下很深的麻轮纹路采用很细的线轮纹路去除。这个时候留下的线轮纹路采用等离子抛光去除。效果为表面镜光无任何纹路，表面棱角处产生R角有利于和其他部件的配合，尤其是按键。对工件的里面一样抛光光亮。
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