厚度均匀和均镀能力好是化学镀镍的一大特点，也是应用广泛的原因之一，化学镀镍避免了电镀层由于电流分布不均匀而带来的厚度不均匀，电镀层的厚度在整个零件，尤其是形状复杂的零件上差异很大，在零件的边角和离阳极近的部位，镀层较厚，而在内表面或离阳极远的地方镀层很薄，甚至镀不到，采用化学镀可避免电镀的这一不足。化学镀时，只要零件表面和镀液接触，镀液中消耗的成份能及时得到补充，任何部位的镀层厚度
真空电镀厂
厚度均匀和均镀能力好是化学镀镍的一大特点，也是应用广泛的原因之一，化学镀镍避免了电镀层由于电流分布不均匀而带来的厚度不均匀，电镀层的厚度在整个零件，尤其是形状复杂的零件上差异很大，在零件的边角和离阳极近的部位，镀层较厚，而在内表面或离阳极远的地方镀层很薄，甚至镀不到，采用化学镀可避免电镀的这一不足。化学镀时，只要零件表面和镀液接触，镀液中消耗的成份能及时得到补充，任何部位的镀层厚度都基本相同，即使凹槽、缝隙、盲孔也是如此。
离子镀特点(1)在真空条件下进行工艺操作,不用酸碱盐,不允许用液体,没有三废排放,对环境没有污染,不需治理污染投资。(2)生产过程中不产生六价铬,不用qing化物,离子镀对人体无害。(3)各类基材表面均可以进行离子镀工艺操作,如钢铁、铜合金、铝合金、锌基合金、塑料、纸张、布、木材、陶瓷、玻璃……均可进行离子镀,只是选择不同离子镀技术和不同工艺而以。
PVD技术是制备薄膜材料的主要技术之一，在真空条件下采用物理方法，将某种材料气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基板材料表面沉积具有增透、反射、保护导电、导磁、绝缘、耐腐蚀、扛氧化、防辐射、装饰等特殊功能的薄膜材料的技术。用于制备薄膜材料的物质被称为PVD镀膜材料。溅射镀膜和真空蒸发镀膜是主流的两种PVD 镀膜方式。
这些添加剂的用量虽然非常少，可能一升电镀液中只需要加入几毫升即可，但是它的作用却是非常大的，可以让整个电镀的效果提升好几个档次。
比如镀镍，因为本身具备脆性，如果没有适当的添加柔软剂，那么镀层内部受到应力的影响，很容易发脆，甚至开裂，但是假如少量的柔软剂就可以让镀层内部的应力减小，甚至基本消失，怎样就可以增强镀层的坚硬度。
为什么添加剂会有如此神奇的效果呢因为加添加剂所起到的作用都是在电极表面微区域内，就好像表面活性剂，从而对电结晶的过程进行了一种干预。使得镀层的结晶发生质的变化。
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