真空镀膜加工即真空电镀是一种物理沉积现象。即在真空状态入气，气撞击靶材，靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的表面层。其特点就是保色久，度好；真空镀膜加工可在恶劣环境中坚持25年；防止结露：大幅抑制光伏玻璃发生结露；防刮划硬度：镀膜后可增加1H硬度防刮划作用；抗积水：水滴落在上面水滴视点到达>110°。
成膜控制系统能采用不同方式，
化学气相沉积技术
真空镀膜加工即真空电镀是一种物理沉积现象。即在真空状态入气，气撞击靶材，靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的表面层。其特点就是保色久，度好；真空镀膜加工可在恶劣环境中坚持25年；防止结露：大幅抑制光伏玻璃发生结露；防刮划硬度：镀膜后可增加1H硬度防刮划作用；抗积水：水滴落在上面水滴视点到达>110°。
成膜控制系统能采用不同方式，比如固定镀制时间、目测、监控以及水晶震荡监控等。镀膜方式也分多种工艺，常用的有离子蒸发镀膜和磁控溅射镀膜。磁控溅射方式镀制的膜层附着力强，膜层的纯度高，可以同时溅射多种不同成分的材料，离子蒸发镀膜可以提高膜层的致密性和结合力及均匀性。镀膜加工在影响产量的五大因素〔操作者、设备、材料、工艺方法及生产环境)。
真空电镀的简单作用过程：真空电镀接通蒸发源交流电源，真空电镀蒸发料粒子熔化蒸发，真空电镀进入辉光放电区并被电离。真空电镀带正电荷的蒸发料离子，阴极吸引下，随同离子一同冲向工件，真空电镀当抛镀于工件表面上的蒸发料离子逾越溅失离子的数量时，真空电镀则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。
真空电镀工艺则有所不同，真空电镀是真空罩内进行的但这时镀膜过程是以电荷传递的形式来实现的，真空电镀蒸发料的粒子作为带正电荷的高能离子在高压阴极(即工件)吸引下，真空电镀以很高的速度注入到工件表面。
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