脉冲激光沉积装置报价价格合理 沈阳鹏程

脉冲激光沉积简介

脉冲激光沉积，就是将激光聚焦于靶材上一个较小的面积，利用激光的高能量密度将部分靶材料蒸发甚至电离，使其能够脱离靶材而向基底运动，进而在基底上沉积，从而形成薄膜的一种方式。 在众多的薄膜制备方法中，脉冲激光沉积技术的应用较为广泛，可用来制备金属、半导体、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各种物质薄膜，甚至还用来制备一些难以合成的材料膜，如金刚石、立方氮化物膜等。期望大家在选购脉冲激光沉积时多一份细心，少一份浮躁，不要错过细节疑问。

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脉冲激光沉积系统特点及优势

可根据客户需求定制产品，灵活性高，并提供的技术支持；靶台可以安装6个靶位，靶材更换灵活；样品台样品尺寸从10x10mm样品到2英寸样品均适用；进样室可以存储多个靶和样品；交易过程无需繁琐的进、出关手续, 交货期短，；

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脉冲激光沉积介绍

脉冲激光沉积，是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光蒸发靶材，生成与靶材组成相同的薄膜。PLD 的之处是能量源（脉冲激光）位于真空室的外面。这样，在材料合成时，工作压力的动态范围很宽，达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度，可以合成一系列具有功能的纳米结构和纳米颗粒。系统组成:主要由溅射真空室、旋转靶台、基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。

另外，PLD 是一种“数字”技术，在纳米尺度上进行工艺控制（A°/pulse）。

沈阳鹏程真空技术有限责任公司以诚信为首 ,服务至上为宗旨。公司生产、销售脉冲激光沉积,公司拥有强大的销售团队和经营理念。想要了解更多信息，赶快拨打图片上的热线电话！