蒸发损失则比在电子束中低得多，而生产率却高得多。熔炼后夹杂物的量同起始量相比极为显著地减少，残余的非金属夹杂物则均匀弥散分布在铸锭中。与此同时，金属和合金强度和延殿性明显地得到改善。在脱熔块时，不能用玻璃棒等尖锐物体从铂器皿中刮取，以免损伤内壁。 现在正在试验供成型浇铸（底注法)用的“无室式”冷坩埚真空感应炉（它采用玻璃纤维增强塑料制成的真空密封衬套）以及冷坩埚真空感应等离子炉
高温石墨坩埚供应
蒸发损失则比在电子束中低得多，而生产率却高得多。熔炼后夹杂物的量同起始量相比极为显著地减少，残余的非金属夹杂物则均匀弥散分布在铸锭中。与此同时，金属和合金强度和延殿性明显地得到改善。在脱熔块时，不能用玻璃棒等尖锐物体从铂器皿中刮取，以免损伤内壁。 现在正在试验供成型浇铸（底注法)用的“无室式”冷坩埚真空感应炉（它采用玻璃纤维增强塑料制成的真空密封衬套）以及冷坩埚真空感应等离子炉。
导致坩埚清洁度不达标的现象的主要原因就是清洁度的差别。国内和国外坩埚的清洁度的差别：国外生产热分析坩埚是在一个无尘的封闭空间里，他能将一定空间范围内之空气中的微粒子、有害空气，国内生产厂家由于目前生产规模比较小资金有限，不能达到大批量生产的规模，所以生产环境和条件不能达到国外那种标准。尽管国外生产和国产的热分析坩埚看起来都是干净的，但是进口的是在无尘空间里面生产洁净度比较高，而国产的热分析坩埚基本上达不到这一要求，坩埚为一陶瓷深底的碗状容器.当有固体要以大火加热时,就必须使用坩埚.因为它比玻璃器皿更能承受高温.坩埚使用时通常会将坩埚盖斜放在坩埚上,以防止受热物跳出,并让空气能自由进出以进行可能的氧化反应.
坩埚可在1450度以下使用，分透明和不透明两种。用电弧法制的半透明石英坩埚是拉制大直径单晶硅，发展大规模集成电路必不可少的基础材料。当今，世界半导体工业发达已用此坩埚取代了小的透明石英坩埚。注浆方法中空注浆时，正在模壁吸附浆料达要求薄厚时，还需将盈余浆料倒出。坩埚的主体原料，是结晶形天然石墨。故它保持着天然石墨原有的各种理化特性。坩埚具有良好的热导性和耐高温性，在高温使用过程中，热膨胀系数小，对急热、急冷具有一定抗应变性能
（作者： 来源：）
