PLD脉冲激光沉积系统介绍
PLD是将脉冲激光透过合成石英窗导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成新材料。
期望大家在选购脉冲激光沉积时多一份细心，少一份浮躁，不要错过细节疑问。想要了解更多脉冲激光沉积的相关资讯，欢迎
脉冲激光沉积装置报价
PLD脉冲激光沉积系统介绍
PLD是将脉冲激光透过合成石英窗导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成新材料。
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脉冲激光沉积的应用领域
沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产、销售脉冲激光沉积，以下信息由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供。
脉冲激光沉积技术适合做的薄膜包括各种多元氧化物，氮化物，硫化物薄膜，金属薄膜，磁性材料等。
应用领域：
单晶薄膜外延（SrTiO3，LaAlO3）
压电薄膜（PZT，AlN，BiFeO3，BaTiO3）
铁电薄膜（BaTiO3，KH2PO4）
热电薄膜（SrTiO3）
金属和化合物薄膜电极（Ti，Ag，Au，Pt，Ni，Co，SrRuO3，LaNiO3，YZrO2，GdCeO2，LaSrCoFeO3）
半导体薄膜（Zn(Mg)O，AlN，SrTiO3）
高K介质薄膜（HfO2，CeO2，Al2O3，BaTiO3，SrTiO3，PbZrTiO3，LaAlO3，Ta2O5）
超导薄膜（YBa2CuO7-x，BiSrCaCuO）
光波导，光学薄膜（PZT，AlN，BaTiO3，Al2O3，ZrO2，TiO2）
超疏水薄膜（PTFE）
红外探测薄膜（V2O5，PZT）
脉冲激光沉积系统的配置介绍
沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产、销售脉冲激光沉积，我们为您分析该产品的以下信息。
1.靶: 数量6个，大小1-2英寸，被激光照射时可自动旋转，靶的选择可通过步进电机控制;
2.基板:采用适合于氧气环境铂金加热片，大小2英寸，加热温度可达1200摄氏度，温度差<3%，加热时基板可旋转，工作环境的压力可达300mtorr;
3.基板加热电源，高到1200度;
4.超高真空成膜室腔体:不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度<5e-8 pa;
5.样品搬运室:不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度<5e-5 pa;
6.排气系统:分子泵和干式机械泵;
7.阀门: 采用超高真空挡板阀;
8.真空检测:真空计;
9.气路两套: 采用气体流量计控制;
10.薄膜生长监控系统: 采用扫描型差分RHEED;
11.监控系统:基板温度的监控和设定，基板和靶的旋转，靶的更换等;
12.各种电流导入及测温端子;
13.其它各种构造:各种超高真空位移台，磁力传输杆，超高真空法兰，超高真空密封垫圈，超高真空用波纹管等;
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