自80年代1开始，我国的气体工业迅速发展，各类纯气体、高纯气体、特种气体、混合气体、标准气体、电子工业用气体等相继问世，其品种数目已与国外发达水平相近。硅片的蚀刻气体（特种气体）主要是氟基气体,包括四氟化碳、四氟化碳/氧气、六氟化硫、六氟乙1烷/氧气、三氟化氮等。包装标志：有毒气体。常温下，干氯不腐 蚀钢｛但在水
特种气体销售
自80年代1开始，我国的气体工业迅速发展，各类纯气体、高纯气体、特种气体、混合气体、标准气体、电子工业用气体等相继问世，其品种数目已与国外发达水平相近。硅片的蚀刻气体（特种气体）主要是氟基气体,包括四氟化碳、四氟化碳/氧气、六氟化硫、六氟乙1烷/氧气、三氟化氮等。包装标志：有毒气体。常温下，干氯不腐 蚀钢｛但在水和湿气存在时，由于生成盐酸和次氯酸。所以呈强腐蚀性应保持设备中无 水，管路、阀门和容器不用时应密封或加帽，从而与大气中的湿气隔离
特种气体的应用领域主要在集成电路制造、太阳能电池、化合物半导体、液晶显示器、光纤生产四大领域,其中主要应用于半导体集成电路的生产制造。在半导体工业中应用的有110 余种单元特种气体,其中常用的有20～30 种。工业上,把常温常压下呈气态的产品统称为气体产品.气体产品种类繁多,大致可以分为一般工业气体和特种气体两大类.一般工业气体产大,但对纯度要求不高.特种气体产虽小,但根据不同的用途。目前，国内共有特种气体生产企业达150余家，多数企业生产规模较小。跨国企业已经在国内投资设立了众多合资或独资的气体公司，占国内销售气体产品市场份额的70%左右。
我国特种气体行业在 2006 年后进入发展阶段，广泛应用于集成电路、显示面 板、光伏能源、光纤光缆、新能源汽车、航空航天、环保和新兴产业领域，特种气体指半导体生产环节中，比如延伸、离子注进、掺和、洗涤、 遮掩膜形成过程中使用到一些化学气体，也就是气体类别中的电子气体，特种气体的主要生产工序包括气体合成、气体纯化、气体混配、气瓶处理、气体充装、气体分析检测等步骤，其中气体的纯化、混配等是气体公司的核心竞争力。
特种气体在太阳能电池中的应用：晶体硅电池片生产中的扩散工艺用 到 POCl3 和 O2，减反射层 PECVD 工艺用到 SiH4、NH3，刻蚀工艺用到 CF4；特种气体的储存注意事项：高压容器内，存有内容物时，无论内容量多少，在该容器储存场地2m内，严禁明火或放置燃、可燃物。场所的环境温度≤40℃为佳。特种气体的储存注意事项：储存场地的道路，应占整个场地面积的20%以上。充填容器和空容器需要明确区分存放。充填容器入库前需检漏，长期存放的充填高压容器需要每月复检一次，并做记录。
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