镁合金表面处理形成保护膜是提高Mg及镁合金材料抗蚀性非常重要、非常有效的方法。近十几年来，研发出了多种有效的表面处理工艺技术，大大扩展了镁合金材料的应用范围。镁合金微弧氧化表面处理即是在铝合金微弧氧化和普通阳极氧化的基础上开发的一种新技术。3．基体原位生长氧化膜，氧化膜与基体属冶金结合，结合牢固，氧化膜致密均匀。
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镁合金表面处理形成保护膜是提高Mg及镁合金材料抗蚀性非常重要、非常有效的方法。近十几年来，研发出了多种有效的表面处理工艺技术，大大扩展了镁合金材料的应用范围。镁合金微弧氧化表面处理即是在铝合金微弧氧化和普通阳极氧化的基础上开发的一种新技术。3．基体原位生长氧化膜，氧化膜与基体属冶金结合，结合牢固，氧化膜致密均匀。
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微弧氧化膜的优势
微弧氧化膜与普通阳极氧化膜相比， 这种膜的空隙率大大降低，从而使耐蚀性和性有了较大提高。目前，微弧氧化技术主要应用于Al、Mg、Ti 等有色金属或其合金的表面处理中。镁合金微弧氧化技术所形成的氧化膜主要由MgO 和MgAl2 O4 尖晶石相组成，总膜厚可达100 Lm以上, 具有明显的三层结构: 外部的疏松层、中间的致密层和内部的结合层。在一些电子元器件或电场中的器件，微弧氧化膜层可提高其绝缘特性。
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微弧氧化膜具有特殊的多孔质结构，使得它在金属材料功能化方面有着巨大的应用潜力，如在微弧氧化膜的细孔中填充润滑性物质，可以作为性能优良的减摩抗磨材料。影响微弧氧化膜生长和性能的因素很多，有待于系统而深入地研究，以弄清楚各因素对膜性能的影响规律，使得不同性能要求下的微弧氧化工艺更具有可重现性。其膜层由于是在高温下生成（瞬间高温度超过3K摄氏度），膜层与基体间为冶金结合，因此与基体结合良好。 微弧氧化电源、微弧氧化技术、微弧氧化生产线
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