PVD真空镀膜是在真空中将钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术，在基材上形成薄膜的一种表面处理过程。与传统化学镀膜方法相比，真空镀膜有很多优点：如对环境无污染，是绿色环保工艺；对操作者无伤害；膜层牢固、致密性好、抗腐蚀性强，膜厚均匀。真空镀膜技术中经常使用的方法主要有：蒸发镀膜(包括电弧蒸发、电子蒸发、电阻丝蒸发等技术)、溅射镀膜(包
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PVD真空镀膜是在真空中将钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术，在基材上形成薄膜的一种表面处理过程。与传统化学镀膜方法相比，真空镀膜有很多优点：如对环境无污染，是绿色环保工艺；对操作者无伤害；膜层牢固、致密性好、抗腐蚀性强，膜厚均匀。真空镀膜技术中经常使用的方法主要有：蒸发镀膜(包括电弧蒸发、电子蒸发、电阻丝蒸发等技术)、溅射镀膜(包括直流磁控溅射、中频磁控溅射、射频溅射等技术)，这些方法统称物理气相沉积(PhysicalVaporDepoition)，简称为PVD。
基础的真空镀膜知识_新闻中心
真空镀膜-基础的真空镀膜知识真空镀膜是由真空镀膜机完成的，其工作流程及原理为：基片通过镀膜机的机械手的搬运，进入到镀膜机的真空腔体里，经过高压电离的离子在强电场及强磁场的作用下，产生高速运动，轰击靶材表面，激发出的金属离子附着在基片表面，形成一层反射膜。基础的真空镀膜知识：真空：用真空泵抽掉容器中的气体，使空间内一个大气压的气体状态，也就是该空间的气体分子密度该地区大气压的气体分子密度。
TiCl4（液体）+4Na（液体）→4NaCl（液体）+Ti（固体）Krol工艺l流程虽然Hunter工艺是钛提取的先驱过程，但后来被Kroll工艺取代。它是由WilliamKroll在1940年第二次世大战期间开发的。该方法的步包括在1000摄氏度的温度下通过焦炭还原钛矿物钛铁矿或金红石。然后将如此形成的混合物置于氯和中。然后通过分馏过程除去许多过量的矿物组分。在阶段，TiCl4在耐高温的钢外壳中再次被液态镁在
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