脉冲激光沉积介绍
脉冲激光沉积也被称为脉冲激光烧蚀(pulsed laser ablation,PLA),是一种利用激光对物体进行轰击,然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上,得到沉淀或者薄膜的一种手段。
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脉冲激光沉积,是一种用途广泛
脉冲激光沉积装置报价
脉冲激光沉积介绍
脉冲激光沉积也被称为脉冲激光烧蚀(pulsed laser ablation,PLA),是一种利用激光对物体进行轰击,然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上,得到沉淀或者薄膜的一种手段。
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脉冲激光沉积,是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光蒸发靶材,生成与靶材组成相同的薄膜。PLD 的之处是能量源(脉冲激光)位于真空室的外面。这样,在材料合成时,工作压力的动态范围很宽,达到10-10 Torr ~ 100 Torr。【设备主要组成】设备由沉积腔室(单室球形或圆筒形)、样品加热转台、激光入射转靶、激光窗、电源控制系统、激光束扫描系统、计算机控制转靶的旋转、脉冲准分子激光器等组成。通过控制镀膜压力和温度,可以合成一系列具有功能的纳米结构和纳米颗粒。
另外,PLD 是一种“数字”技术,在纳米尺度上进行工艺控制(A°/pulse)。
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常规沉积条件下的组合合成
脉冲激光沉积系统特点及优势:
可根据客户需求定制产品,灵活性高,并提供的技术支持;靶台可以安装6个靶位,靶材更换灵活;样品台样品尺寸从10x10mm样品到2英寸样品均适用;进样室可以存储多个靶和样品;交易过程无需繁琐的进、出关手续, 交货期短,;
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