蚀刻技术可以分为湿蚀刻和干蚀刻两类。
早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版，也广泛地被使用于减轻重量仪器镶板，铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工；经过不断改良和工艺设备发展，
显影是印刷、影印、复印、晒图等行业中，让影像显现的一个过程。正显影时，显影色粉所带电荷的极性，与感光鼓表面静电潜像的电荷极性相反。显影时，显影套筒开始旋转，
曝光：经光源作用将原始底片上的图像转移到感光
铭牌曝光显影报价
蚀刻技术可以分为湿蚀刻和干蚀刻两类。
早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版，也广泛地被使用于减轻重量仪器镶板，铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工；经过不断改良和工艺设备发展，
显影是印刷、影印、复印、晒图等行业中，让影像显现的一个过程。正显影时，显影色粉所带电荷的极性，与感光鼓表面静电潜像的电荷极性相反。显影时，显影套筒开始旋转，
曝光：经光源作用将原始底片上的图像转移到感光底板（即PCB）上.
显影：通过碱液作用,将未发生光聚合反应之感光材料部分冲掉.
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暗房曝光后显影不良是什么原因？曝光时间过长或曝光不足：在紫外光照射下，吸收了光能量的光引发剂分解成游离基引发单体进行光聚合反应，形成不溶于稀碱的溶液的体型分子。
显影不良：贴好的干膜后的覆铜箔层压板经曝光之后，还须经过显影机显影，将未曝光的干膜保持原成份，在显影机内与显影液发生下列反应：
-COOH+Na+ → -COONa+H+
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什么是曝光显影工艺？
不同的物质通过对不同波长紫外光的吸收，分子会发生能级跃迁，从基态跃迁至激发态，改变物质化学性能。曝光显影工艺就是指利用物质这一特点，由紫外平行光源通过掩膜版对涂有特定吸收波长的油墨进行紫外光照射，然后通过化学去除多余涂层，从而达到图形转印的过程称之为曝光显影工艺。
曝光显影整装线工艺流程：
1、根据客户产能需求，具有全制程设备的设计制造能力；
2、具有全制程工艺参数的掌控能力；
3、具有曝光油墨的合格配套商（设备工艺参数与油墨性能紧密相关）；
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