广州杂质捕获仪报价企业「通恒」

杂质捕获仪

金属探测器人机界面是人与探测器间相互施加影响的区域,自然人与金属探测器信息交流都属于人机界面叫。目前金属探测器人机界面在的需求量确实很大,但却不是人机界面产品销售额高的市场,因为低端智能人机界面越来越成为社会的主流,在占有很大的份额,非智能的金属探测器人机界面并不具有很强的优势。

层析介质所在的纯化工艺中的步骤

在纯化的工艺开发过程中，一般采用三步法纯化工艺：捕获→中度纯化→精纯。

在三步纯化工艺中，不同的纯化步骤，其纯化工作的目的不同。

捕获步骤主要的目的是：从大量的杂质中捕获目标样品，缩小样品的体积，以便于后续的纯化工作。

所以此步骤的工作面临的是物料中有大量杂质。因此此步骤层析介质的清洗需要比较强烈的试剂，因而捕获步骤的层析介质的寿命相对较短。

电子气体中金属杂质的捕集

电子工业用气体统称电子气体，指在半导体及其它电子产品生产过程中所用到的高纯度气体，是微纳电子制造安全战略产业的关键支撑材料，其广泛应用于大规模集成电路、液晶显示器、多晶硅和薄膜太阳能电池、新型电光源、光电半导体器件以及光纤通讯器件等电子行业 [1] [2] [3]。表1为一些电子工业生产中所常用到的高纯气体 [3]。

近年来，随着微纳电子制程向大尺寸、窄线宽、高集成度、高均匀性和高完整性发展，对电子气体的纯度和一致性要求越来越高，除了应具有5 N (99.999%)以上纯度，还要求电子气体中的H2O、气体杂质(如O2、CO2、CO、CH4等)和金属杂质(如Al、Cr、Cd、Cu等)的指标达到ppb (109)至ppt (1012)数量级，气体的要求高度稳定且一致。电子气体的纯度对于半导体器件的质量与成品率影响很大，尤其是气体中的金属杂质，是使半导体产生漏电、晶格缺陷和断线的主要原因

电感耦合等离子体原子发射光谱(ICP-AES)

电感耦合等离子体原子发射光谱(, 简称ICP-AES)是以电感耦合等离子体为激发光源，使样品中各成分的原子被激发并发射出特征谱线的光，再根据特征谱线的波长和强度来确定样品中所含的化学元素及其含量的一种分析技术 [14]。

ICP-AES主要应用于金属元素分析，而对于非金属元素的测定灵敏度较差。其仪器检出限为109~107 g/mL，一般元素都存在灵敏度不同的多条谱线，动态线性范围约为4~6个数量级，故非常适合测试基体复杂、元素含量范围变化大、要求测定元素多和批量大的试样 [15]。ICP-AES的主要优缺点列于表3。