曝光显影工艺的方法以及半导体器件.根据本发明的优化自对准双重曝光显影工艺的方法包括:在待刻蚀膜层形成层,其中层包括层叠的多个层;第二步骤:在层上形成光刻胶层,并形成光刻胶图案;第三步骤:利用光刻胶图案刻蚀层;第四步骤:沉积隔离层;第五步骤:刻蚀隔离层从而在层图案形成隔离层侧壁;第六步骤:去除层图案,留下隔离层侧壁;第七步骤:利用隔离层侧壁来刻蚀待刻蚀膜层.铭牌曝光显影抛光
一种3D曲面玻璃曝光显影
铭牌曝光显影抛光
曝光显影工艺的方法以及半导体器件.根据本发明的优化自对准双重曝光显影工艺的方法包括:在待刻蚀膜层形成层,其中层包括层叠的多个层;第二步骤:在层上形成光刻胶层,并形成光刻胶图案;第三步骤:利用光刻胶图案刻蚀层;第四步骤:沉积隔离层;第五步骤:刻蚀隔离层从而在层图案形成隔离层侧壁;第六步骤:去除层图案,留下隔离层侧壁;第七步骤:利用隔离层侧壁来刻蚀待刻蚀膜层.铭牌曝光显影抛光
一种3D曲面玻璃曝光显影定位夹具制造技术，包括定位板、曲面透光镜片、菲林片和盖板；所述定位板上设有与曲面产品镜面同样大小的透光通槽，所述曲面透光镜片嵌装在透光通槽中，所述菲林片上印刷需要遮蔽的透光图案并贴合在曲面透光镜片上，所述曲面产品贴合在菲林片上，所述盖板与定位板扣合，将曲面产品、菲林片和曲面透光镜片压紧固定。铭牌曝光显影抛光
在手机、平板电脑及其他各种带视窗的玻璃镜片产品装饰面印刷上，除了使用传统的热固化油墨外，还大量使用到UV感光油墨。目前玻璃镜片领域现用的感光油墨曝光显影工艺，仍停留在2D平面产品上，使用的感光油墨曝光工艺生产流程为：1，印刷感光油墨；2，油墨表干；3，印刷遮敝图案；4，UV曝光；5，显影。随着3D曲面镜片的推广应用，铭牌曝光显影抛光
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