一般生产区清洁要求是什么一般生产区清洁要求是什么？
1）玻璃、墙面、门窗、顶棚应清洁，无尘埃，地上应平整，无积水、杂物。建筑结构设备设备洁净无缺，设备、管线排列规整并包扎光亮，无跑、冒、滴、漏现象，有定时清洁、修理的记载。
2）原辅料、中心产品、制品分类堆放，有防尘办法，有明显的状况符号。
3）楼道、走廊、电梯间不能寄存物品，坚持晓畅、清洁。
4）生产用东西、容器、设备按规
饮料洁净车间
一般生产区清洁要求是什么
一般生产区清洁要求是什么？
1）玻璃、墙面、门窗、顶棚应清洁，无尘埃，地上应平整，无积水、杂物。建筑结构设备设备洁净无缺，设备、管线排列规整并包扎光亮，无跑、冒、滴、漏现象，有定时清洁、修理的记载。
2）原辅料、中心产品、制品分类堆放，有防尘办法，有明显的状况符号。
3）楼道、走廊、电梯间不能寄存物品，坚持晓畅、清洁。
4）生产用东西、容器、设备按规则放置，按规程清洁。
5）生产场所无非生产用品，不在生产场所内吸烟、吃东西、睡觉、会客，不暴晒工装。
清洗洁净的中药材不得放在地上,应放在烘干设备中枯燥
清洗洁净的中药材不得放在地上上，应放在烘干设备中枯燥，不允许露天翻晒。
物料的外包装应无缺，无受潮、蜕变、虫蛀、鼠咬等，进入操作间前脱去外包装，并堆放在规则的方位，操作完毕后将剩下包装封口，及时结料、退料。
定时清洁生产车间内的电扇、烟道、气道，使之无浮尘、无污物。
各生产车间、工序、岗位依据品种特点及生产要求树立相应的清洁清洁规程，并严厉遵照执行。
坚持设备清洁，周围无油垢、污水，避免所运用的润滑剂或冷却剂污染药品、辅料、中心体。
发展在过去我国的洁净技术和设备与国外相比差距是明显的
发展
在过去我国的洁净技术和设备与国外相比差距是明显的，我国1965年才开始生产的HEPA过滤器，比国外了十五年。1975年开始生产的光散射尘埃粒子计数器比国外晚了二十年。0.1微米洁净技术和设备在国际上已成为成熟技术，我国则刚刚起步。
在洁净室建设规模和技术水平上，我国与差距更大。日本清水建设公司一家，1982年到1987年期间承建的洁净室面积达71.8万平方米，而我国目年承建的洁净室总面积还不到10万平方米，但八五期间有较大发展，1993年承建洁净室总面积已接近15万平方米。美国的洁净室建设规模更大，1998年统计已达188.5万平方米。
使洁净室总体表现下降的因素
使洁净室总体表现下降的因素
相对湿度在40%至60%的范围同样也是人类感觉舒适的适度范围。湿度过高会使人觉得气闷，而湿度30%则会让人感觉干燥，皮肤，呼吸道不适以及情感上的不快。
高湿度实际上减小了无尘车间、洁净室表面的静电荷积累，较低的湿度比较适合电荷的积累并成为潜在的具有破坏性的静电释放源。当相对湿度超过50%时，静电荷开始迅速消散，但是当相对湿度小于30%时，它们可以在绝缘体或者未接地的表面上持续存在很长一段时间。
相对湿度在35%到40%之间可以作为一个令人满意的折中，半导体无尘车间、洁净室一般都使用额外的控制装置以限制静电荷的积累。
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