电子束蒸发镀膜机的技术特点
沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产、销售电子束产品，以下信息由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供。
1、样品台：水冷样品座，样品座高度可调，便于调整蒸距。调节范围：样品台与基片的可调节范围300mm.
2、电子枪：电子枪功率6kW可调（满足金属、绝缘材料高速蒸发）4穴水冷坩埚（适用于对多种材料进行蒸发镀制多层膜且膜层较薄工艺中应
分子束外延设备厂家
电子束蒸发镀膜机的技术特点
沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产、销售电子束产品，以下信息由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供。
1、样品台：水冷样品座，样品座高度可调，便于调整蒸距。调节范围：样品台与基片的可调节范围300mm.
2、电子枪：电子枪功率6kW可调（满足金属、绝缘材料高速蒸发）4穴水冷坩埚（适用于对多种材料进行蒸发镀制多层膜且膜层较薄工艺中应用效果好）。为保持E型电子枪蒸发绝缘稳定性，配制束流扫描控制器，具有多种供控制程序进行选择的预设模式，方便于操作、实验数据积累。对粒子增速器的粒子运行管道来说，为了减少粒子在运动中与残余气体碰撞而造成粒子的丢失和束流性能变坏，所要求的真空度比显像管要高数千到数万倍。配套相应蒸发坩埚内衬,以适应不同材料,确保蒸发速率稳定性,重复性.
电子束镀膜属于蒸镀还是溅射？
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1.蒸发镀膜和溅射镀以及离子镀都是物理气相沉积（PVD）的工艺方法。
2.蒸发镀主要包括：电阻加热蒸发、感应加热蒸发、电子束蒸发、激光加热蒸发、离子束蒸镀等。
3.您所说的E型枪镀膜和直型电子枪镀膜都是属于热蒸发镀膜的范畴。
4.S枪溅射实际就是锥形磁控溅射靶，阴极靶材为环状锥形，安装在水冷座上。环状磁钢套在靶材外边形成曲线磁场，其平行靶面的磁场分量和垂直于靶面的电场分量形成正交电磁场。由一端的电子枪产生的电子束（强度受影像讯号控制）经过聚焦线圈聚焦后在高压电极的作用下加速向前运动。电子束被约束在靶面附近运动，电子流密度很大，在靶面附近产生很强的非弹性碰撞，电离几率很大，形成很强的等离子体。
电子束镀膜的溅射方式
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溅射方式是用高速正离子轰击靶材表面，通过动能传输，令靶材的分子（原子）有足够的能量从靶材表面逸出，在产品表面凝聚形成薄膜。
用溅射的方法制镀的薄膜附着性强，薄膜的纯度高，可以同时溅射多种不同成分的材料，但是对靶材的要求高，不能象电子枪一样节约资源。
目前运用较多的有磁控溅射，磁控溅射是指平行于阴极表面施加强电场，将电子约束在阴极靶材表面附近，提高电离效率。它是操作比较简单的一种，所以运用非常广。
电子束镀膜机电源柜的操作
1. 总电源
2. 同时开电子枪控制Ⅰ和电子枪控制Ⅱ电源：按电子枪控制Ⅰ电源、延迟开关、电源及保护灯亮，三分钟后延迟 及保护灯灭，若后门未关好或水流继电器有故障，保护灯会常亮。
3. 开高压，高压会达到10KV以上，调节束流可到200mA左右，帘栅为20V/100mA，灯丝电流1.2A，偏转电流在1~1.7之间摆动。
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