Parylene 材料
Parylene N，聚对二甲苯。将二中的一个氢原子用一个氯原子所取代，就得到Parylene C；将其中两个芳香烃氢原子被氯原子取代，就得到Parylene D；苯环上的4个氢原子被氟取代，即可得Parylene F；而将二上的H原子替换为F原子，就得到HT型Parylene。
性能和用途
Parylene N是一种很好的
小型气相沉积设备
Parylene 材料
Parylene N，聚对二甲苯。将二中的一个氢原子用一个氯原子所取代，就得到Parylene C；将其中两个芳香烃氢原子被氯原子取代，就得到Parylene D；苯环上的4个氢原子被氟取代，即可得Parylene F；而将二上的H原子替换为F原子，就得到HT型Parylene。
性能和用途
Parylene N是一种很好的介电材料，具有非常低的介质损耗、高绝缘强度以及不随频率变化的介电常数。它是所有Parylene中穿透能力高的一种，有很好的自润滑性，摩擦系数为0.25。符合ISO-10993生物试验要求，符合UDP第六类塑料的生物试验要求。
派瑞林原料cN是一种很好的介电材料，具有非常低的介质损耗、高绝缘强度以及不随频率变化的介电常数，是所有派瑞林原料c中穿透能力的一种，并具有很好的自润滑性；
派瑞林原料cF具有高通透性和介电性能好的特点，在光电和等领域都有着广泛的应用；
派瑞林原料cHT具有更低的介电常数，透波性能好，热稳定性好。
派瑞林原料c可以涂敷到各种形状的表面，在盐雾、霉菌、潮湿、腐蚀性等恶劣环境中显示了很好的隔离防护功能。而且生物相容性和生物稳定性也好，无毒无副产物，可以进行常规消毒。随着生物电子科学的不断进步和发展，领域的很多方面都有使用派瑞林。
镀膜设备的镀膜方式：离子镀，蒸发镀，溅射镀
(1)镀膜设备的特点： 成膜速度快0.1- 50um/min，设备比较简单，操作容易;制得薄膜纯度高;薄膜生长机理较简单。
镀膜设备镀出的产品掉膜是怎么回事
一、产品表面洁净度不够，离子源清洗气放大时间长点。
二、清洗是否有加了清洗剂，或者更换了清洗剂，建议用纯水先试一下。
三、工艺参数是否有变动在膜厚和电流上可以做点调整。
真空镀膜机如何选型选用真空泵时，需要注意下列事项：
真空泵的工作压强应该满足真空设备的极限真空及工作压强要求。
如:真空镀膜机要求1x10-5mmHg的真空度, 选用的真空泵的真空度至少要5x10-6mmHg.真空镀膜机对于真空度的极限要求和工作压力强度要求越来越大，对真空泵的抽真空能力要求就越高，通常选择泵的真空度要高于真空设备真空度半个到一个数量级。
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