含氢DLC涂层的生长机理
对于含氢的DLC涂层，与CVD金刚石涂层一样，一般认为碳与碳、碳与氢原子进行杂化，形成坚固的四面体结构，氢原子的存在促进形成SP3键，而刻蚀掉已经形成的SP2键；在无序的网络结构中，氢原子能够终止碳原子至外端的悬挂键，阻止碳原子形成SP2键。由于氢原子的存在可以帮助和促进SP3键的形成，因此人们认为氢的存在是DLC涂层中形成S
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含氢DLC涂层的生长机理
对于含氢的DLC涂层，与CVD金刚石涂层一样，一般认为碳与碳、碳与氢原子进行杂化，形成坚固的四面体结构，氢原子的存在促进形成SP3键，而刻蚀掉已经形成的SP2键；在无序的网络结构中，氢原子能够终止碳原子至外端的悬挂键，阻止碳原子形成SP2键。由于氢原子的存在可以帮助和促进SP3键的形成，因此人们认为氢的存在是DLC涂层中形成SP3键所必需的，而且还建立了SP3与氢含量的关系。
研究表明，随着环境中氢原子含量的增加，涂层中SP3键含量增加，而且还发现氢含量为50%附近时硬度至大。
含氢类金刚石涂层的生长模型分为三个阶段，即等离子体的反应（气体的分子或原子分解、电离）；等离子体与表面作用以及涂层浅表面的作用。
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在真空条件下，利用气体放电使气体或蒸发物质离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时，把蒸发物或其反应物蒸断在 基片上。离子锻把辉光放电、等离子体技术与真空蒸发锻膜技术结合在一起。
01、原理
真空离子膜膜是真空蒸发和真空溅射锻膜结合的一种锻膜技术。离子锻的过程是在真空条件下， 利用气体放电使工作气体或被蒸发物质（膜材）部分离化， 在工作气体离子或者被蒸发物质的离子轰击作用下，把蒸发物质或其反应物沉积在被锦基片表面的过程。
02、特点
( 1 ) 铺层附着性能好，膜层不易脱落
( 2 ) 绕锻性好，改善了表面的覆盖度
( 3 ) 断层质量好
( 4 ) 沉积速率高，成膜速度快
( 5 ) 膜膜所适用的基体材料与膜材范围广。
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