厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位，约为100A)，真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。
厚度均匀性主要取决于：
1、基片材料与靶材的晶格匹配程度
2、基片表面温度
3、蒸发功率，速率
4、真空度
纳米镀膜工艺
厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位，约为100A)，真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。
厚度均匀性主要取决于：
1、基片材料与靶材的晶格匹配程度
2、基片表面温度
3、蒸发功率，速率
4、真空度
5、镀膜时间，厚度大小。
真空镀膜是一种产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术用于生产激光唱片(光盘)上的铝镀膜和由掩膜在印刷电路板上镀金属膜。在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。
真空镀膜表面的清洗非常重要，直接影响电镀产品的质量。在进入镀膜室之前，工件必须在电镀前仔细清洗。表面污染来源于加工、运输和包装过程中粘附在工件上的各种灰尘、润滑油、机油、抛光膏、油脂、汗渍等物质。
真空镀膜知识：
1.真空:用真空泵抽掉容器中的气体,使空间内一个大气压的气体状态，也就是该空间的气体分子密度该地区大气压的气体分子密度。
2.真空中残存气体的稀薄程度,就是真空程度的高低,即真空度。通常用压力表示单位（Pa）
3.1Pa就是1m2面积上作用1N的压力。1大气压=1.03×105Pa
4.压升率：单位时间内，真空度降低的速率。单位：Pa/h
5.真空泵的抽气简称抽速）（单位：L/S） :当泵装有标准试验罩并按规定条件工作时，从试验罩流过的气体流量与在试验罩上位置测得的平衡压力之比。
6.极限真空度：（单位：Pa):在规定条件工作，在不引入气体正常工作的情况下，趋向平稳的压强。
（作者： 来源：）
