NR77-20000PYNR27 25000P光刻胶厂家
光刻胶存储条件及操作防护
光刻胶是一种可燃液体，储存条件应符合对应的法规，不要与强氧化剂混合，存放在通风良好的地方，保持容器密闭，避免吸入蒸汽或雾气，避免接触眼睛、皮肤或衣服，操作后清洗。
个人防护
眼睛：佩戴化学飞溅护目镜。
皮肤：戴上适当的防护手套防止皮肤暴露。
服装：
NR27 25000P光刻胶厂家
NR77-20000PYNR27 25000P光刻胶厂家
光刻胶存储条件及操作防护
光刻胶是一种可燃液体，储存条件应符合对应的法规，不要与强氧化剂混合，存放在通风良好的地方，保持容器密闭，避免吸入蒸汽或雾气，避免接触眼睛、皮肤或衣服，操作后清洗。
个人防护
眼睛：佩戴化学飞溅护目镜。
皮肤：戴上适当的防护手套防止皮肤暴露。
服装：穿戴合适的防护服防止皮肤暴露。
呼吸器：无论何时在工作环境下呼吸保护必须遵循职业安全健康管理局标准的规定和ANSI美国学会Z88.2的相关要求，或必须执行欧洲呼吸防护EN 149的标准。
光刻胶
光刻胶由光引发剂、树脂、溶剂等基础组分组成，又被称为光致抗蚀剂，这是一种对光非常敏感的化合物。此外，光刻胶中还会添加光增感剂、光致产酸剂等成分来达到提高光引发效率、优化线路图形精密度的目的。芯片光刻的流程详解（一）在集成电路的制造过程中，有一个重要的环节——光刻，正因为有了它，我们才能在微小的芯片上实现功能。在受到紫外光曝光后，它在显影液中的溶解度会发生变化。
分类
根据光刻胶按照如何响应紫外光的特性可以分为两类。
正胶
曝光前对显影液不可溶，而曝光后变成了可溶的，能得到与掩模板遮光区相同的图形。
优点：分辨率高、对比度好。
缺点：粘附性差、抗刻蚀能力差、高成本。
灵敏度：曝光区域光刻胶完全溶解时所需的能量
负胶egative
Photo Resist）
与正胶反之。
优点： 良好的粘附能力和抗刻蚀能力、感光速度快。
缺点： 显影时发生变形和膨胀，导致其分辨率。
灵敏度：保留曝光区域光刻胶原始厚度的50%所需的能量。
光增感剂
是引发助剂，能吸收光能并转移给光引发剂，或本身不吸收光能但协同参与光化学反应，起到提高引发效率的作用。
光致产酸剂
吸收光能生成酸性物质并使曝光区域发生酸解反应，用于化学增幅型光刻胶。
助剂
根据不同的用途添加的颜料、固化剂、分散剂等调节性能的添加剂。
主要技术参数
分辨率（resolution）
是指光刻胶可再现图形的小尺寸。一般用关键尺寸来（CD，CriticalDimension）衡量分辨率。
（作者： 来源：）
