镀膜有许多优点，如设备与工艺相对比较简单，即可沉积非常纯净的膜层，又可制备具有特定结构和性质的膜层等等，仍然是当今非常重要的镀膜技术。镀膜系统一般由三个部分组成：真空室、蒸发源或蒸发加热装置、放置基板及给基板加热装置。在真空中为了蒸发待沉积的材料，需要容器来支撑或盛装蒸发物，同时需要提供蒸发热使蒸发物达到足够高的温度以产生所需的蒸汽压。
膜层的特点：具有高硬度、高性（低
五金纳米镀膜设备
镀膜有许多优点，如设备与工艺相对比较简单，即可沉积非常纯净的膜层，又可制备具有特定结构和性质的膜层等等，仍然是当今非常重要的镀膜技术。镀膜系统一般由三个部分组成：真空室、蒸发源或蒸发加热装置、放置基板及给基板加热装置。在真空中为了蒸发待沉积的材料，需要容器来支撑或盛装蒸发物，同时需要提供蒸发热使蒸发物达到足够高的温度以产生所需的蒸汽压。
膜层的特点：具有高硬度、高性（低摩擦系数）、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点、表面细腻光滑并富有金属光泽同时颜色均匀一致，大幅度提高工件的外观装饰性能。在真空室中利用弧光（或辉光）放电所产生的能量将靶材（钛等金属或合金）直接蒸发（或溅射）离化生成金属离子，并通过电场进行加速与反应气体生成金属化合物，沉积在工件表面.其可以在产品表面镀覆金黄色、黄铜色、香槟色、银白色、黑色、玫瑰色、古铜色、咖啡色、紫铜色、褐色、深黑色等多种美观的装饰膜。
真空镀膜设备是蒸发式镀膜装置，在真空室中利用电阻加热法，将紧贴在电阻丝上的金属丝（铝丝）熔融汽化，汽化了金属分子沉积于基片上，而获得光滑高反射率的膜层，达到装饰美化物品表面的目的。
真空镀膜设备，主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
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