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分子真空泵是在 1911 年由德国人盖德 首先发明的,并阐述了分子泵的抽气理论,分子泵,使机械真空泵在抽气机理上有了新的突破。 分子泵的抽气机理与容积式机械泵靠泵腔容积变化进行抽气的机理不同,分子泵是在分子流区域内靠高速运动的刚体表面传递给气体分子以动量,使气体分子在刚体表面的运动方向上产生定向流动,
ULVAC分子泵维修价格
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分子真空泵是在 1911 年由德国人盖德 首先发明的,并阐述了分子泵的抽气理论,分子泵,使机械真空泵在抽气机理上有了新的突破。 分子泵的抽气机理与容积式机械泵靠泵腔容积变化进行抽气的机理不同,分子泵是在分子流区域内靠高速运动的刚体表面传递给气体分子以动量,使气体分子在刚体表面的运动方向上产生定向流动,从而达到抽气的目的。
通常把用高速运动的刚体表面携带气体分子,并使其按一定方向运动的现象称为分子牵引现象。因此,人们将盖德发明的分子泵称为牵引分子泵。分子泵公司主要提供各分子泵电源,真空计,真空显示器,氦气检测仪,质谱仪的维修、保养、销售等服务。分子泵分子泵是利用高速旋转的转子把动量传输给气体分子,使之获得定向速度,从而被压缩、被驱向排气口后为前级抽走的一种真空泵。
这种泵具体可分为: (1)牵引分子泵气体分子与高速运动的转子相碰撞而获得动量,被驱送到泵的出口。
(2)涡轮分子泵 靠高速旋转的动叶片和静止的定叶片相互配合来实现抽气的。这种泵通常在分子流状态下工作。
(3)复合分子泵它是由涡轮式和牵引式两种分子泵串联组合起来的一种复合型的分子真空泵。
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涡轮分子泵的工作原理,结构型式及其优缺点。
为了利用涡轮分子泵,获得清洁真空,国外多利用干式机械泵作其前级泵,构成无油的真空系统。然而,目前国内涡轮分子泵多以油封机械泵为其前级泵,构成了有油真空系统,如果操作不当,很难避免油蒸汽返流,对真空系统的污染。利用有油系统获得清洁真空,国内外都有一些有效防止返流的措施和成功的操作经验。
应用:当今,现代化的半导体行业中,越来越多地应用涡轮分子泵。如溅射、刻蚀、蒸发、注入、分子束外延、离子加工等设备都需要在真空环境下运行。又如电子显微镜,表面分析仪器,残余气体分析仪及氦质谱检漏仪等也经常使用涡轮分子泵来抽真空。此外,在宇宙模拟设备、核聚变装置、太阳能集热管镀膜生产线上也都改用大型涡轮分子泵或低温泵来代替油扩散泵系统,以防止油蒸汽的污染。
因此,很近十几年来,涡轮分子泵,在国内、外都得到了显著的改进和发展。在涡轮分子泵的应用日益增加干式的前级泵还没有大量普及和应用的情况下,有时还不得不用油封机械泵来作涡轮分子泵的前级泵。因此,针对这种现状,对涡轮分子泵的合理选用和正确操作是很重要的。
半导体产业链IC制造行业属于典型的技术密集型行业,产品技术含量非常高,同时对配套产业要求较高,其中就包括真空设备配套产业。真空设备(真空阀、真空泵、真空腔体及管道等)是半导体各工艺制程环节必备的通用设备,广泛应用于芯片生产制造过程。 半导体制造设备及工艺流程半导体器件的生产制造工艺极其复杂,需要在高纯度硅片上执行一系列精密的物理或者化学操作,例如掺入相应的其它元素、形成多种金属薄膜和绝缘膜、进行表面的刻蚀处理等。
这些复杂的生产制造工艺都需要在分子泵维持的高真空环境下进行,而且对真空系统和真空设备的洁净度也有着很高的要求。分子泵在半导体设备中的应用.在半导体生产制造工艺中,分子泵广泛应用于光刻机、薄膜沉积设备、刻蚀设备、离子注入机等关键设备。光刻机光刻机是生产大规模集成电路的设备,制造和维护需要高度的光学和电子工业基础,世界上只有少数厂家掌握,因此光刻机价格昂贵。
光刻机光刻过程必须在高真空环境中实现,原因是极紫外光很娇贵,在空气中容易损耗。同时,在光刻过程中,设备的动作时间误差以皮秒计,这对磁悬浮分子泵的振动值要求极高。(注:皮秒=兆分之一秒)薄膜沉积指在晶圆表面生成多种薄膜,这些薄膜可以是绝缘体、半导体或导体。它们由不同的材料组成,是使用多种工艺生长或沉积的。
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