镀钛是作为金属材料的表面处理的一种工艺，现在已经在工业领域普遍应用并有逐渐推广使用的意向。在二十世纪七十年代末，人类就已经开始物理气相沉积技术，即PVD技术。物理气相沉积技术可以应用在硬质膜的制造上，它能够提高产品的机械化学性能，使制造出的产品具有高性、高硬度等性能，还可以减轻摩擦作用。这种技术在开始使用时，就在的工具制造业引起了巨大的反响，受到了高度重视。同时，这
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镀钛是作为金属材料的表面处理的一种工艺，现在已经在工业领域普遍应用并有逐渐推广使用的意向。在二十世纪七十年代末，人类就已经开始物理气相沉积技术，即PVD技术。物理气相沉积技术可以应用在硬质膜的制造上，它能够提高产品的机械化学性能，使制造出的产品具有高性、高硬度等性能，还可以减轻摩擦作用。这种技术在开始使用时，就在的工具制造业引起了巨大的反响，受到了高度重视。同时，这种技术工艺符合现代人们对环境无污染加工技术的要求，是一种绿色环保的技术。
要想镀出坚固的钛层，首先要有好的设备。因为在镀膜过程中，真空系统必需要工作稳定，炉体保压要好，如果在镀膜过程中有杂气掺入，颜色就会不理想，严重的还会脱钛。好的设备弧源离化率高，形成的离子密度大，大颗粒少，镀出的膜层光滑度高，磨擦系数小，坚固不脱落，差的设备离化率低，镀出来的膜层粗糙没光泽，容易刮花脱落。
霍尔离子源的特征在哪
首先阴极在离子源腔内产生等离子体，然后通过两三层阳极栅将离子从等离子体腔中抽出。该离子源方向性强，离子能量带宽集中，可广泛应用于真空镀膜。缺点是阴极(通常是钨丝)在反应气体中很快烧坏，离子通量有限，可能会让需要大离子通量的用户不舒服。霍尔离子源是一种阳极，在强轴向磁场的作用下对过程气体进行等离子体处理。这种轴向磁场的强烈不平衡分离了气体离子并形成离子束。由于轴向磁场太强，霍尔离子源的离子束需要补充电子来中和离子电流。常见的中和源是钨丝(阴极)。霍尔离子源的特征在于：
提取过程仍然没有人能够在18或19世纪分离出高纯度的钛样品。在接下来的几年里，这项壮举是由一些资源丰富的化学家实现的。1910年，新西兰化学家MatthewHunter对Nilsen和Pettersen于1887年开发的化学工艺进行了改进和改进，使用钠提取了99.9％具有延展性的纯金属钛。这使得钛可用于各种应用。
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