微弧氧化膜层生长时,首先在基体表面发生化学反应,生成一层阳极氧化膜。当增大反应电压时,膜层厚度会进一步增加,厚度会随之增加。但是当反应电压增加到一定程度时,膜层会由于不能承受该工作电压发生放电再击穿,产生等离子放电。反应的高温将使膜层发生熔融,基体元素由于处在富氧环境中,将形成氧化物。同时由于是在电解液中,熔融物将瞬间冷凝,在基体表面生成一层陶瓷。陶瓷膜的生成,将导致工作电压进
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微弧氧化膜层生长时,首先在基体表面发生化学反应,生成一层阳极氧化膜。当增大反应电压时,膜层厚度会进一步增加,厚度会随之增加。但是当反应电压增加到一定程度时,膜层会由于不能承受该工作电压发生放电再击穿,产生等离子放电。反应的高温将使膜层发生熔融,基体元素由于处在富氧环境中,将形成氧化物。同时由于是在电解液中,熔融物将瞬间冷凝,在基体表面生成一层陶瓷。陶瓷膜的生成,将导致工作电压进一步升高,膜层再次被击穿,膜层厚度进一步增加。周而复始,膜层得以生长。
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时间对微弧氧化封孔膜层增厚的影响
在其他工艺参数相同的情况下,不同封闭时间对陶瓷膜膜层增厚的影响。封闭时间较短时,膜层增厚较少;随着时间的延长,膜层逐渐增厚;但是封闭时间过长,如封闭时间超过60min后,膜层增厚并不显著,而且有下降的趋势。
微弧氧化的步骤
一、阳极氧化阶段
将样品置于一定的电解液中,通电后,样品外表和阴极外表呈现无数细小的平均的白色气泡,而且随电压升高,气泡逐步变大变密,生成速率也不时加快。在到达击穿电压之前,这种现象不断存在,这一阶段就是阳极氧化阶段。
二、火花放电阶段
当施加到样品的电压到达击穿电压时,样品外表开端呈现无数细小、亮度较低的火花点。这些火花点密度不高,无爆鸣声。在该阶段,样品外表开端构成陶瓷层,但陶瓷层的生长速率很小,硬度和致密度较低,所以应尽量减少这一阶段的时间。
微弧氧化膜的性能特点
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