本发明涉及曝光显影油墨工艺技术领域，尤其涉及一种曝光显影油墨工艺流程。曝光显影设备及曝光显影方法，具体而言，涉及用于对基板的主体和边缘进行曝光、显影的设备及方法。
其主要功用为防止静电的产生及后段框胶贴附的质量，另一个功用就是去除基板四周的不必要的残留。有的用于曝光显影的设备，其包括主体曝光机10、边缘曝光装20及显影装置30。凹凸面曝光显影抛光
曝光显影工艺是3d镜片产品装饰选用的一
凹凸面曝光显影抛光
本发明涉及曝光显影油墨工艺技术领域，尤其涉及一种曝光显影油墨工艺流程。曝光显影设备及曝光显影方法，具体而言，涉及用于对基板的主体和边缘进行曝光、显影的设备及方法。
其主要功用为防止静电的产生及后段框胶贴附的质量，另一个功用就是去除基板四周的不必要的残留。有的用于曝光显影的设备，其包括主体曝光机10、边缘曝光装20及显影装置30。凹凸面曝光显影抛光
曝光显影工艺是3d镜片产品装饰选用的一种后制程装饰方案。在玻璃、有机玻璃、蓝宝石与注塑件等3d产品(如前盖、嵌件、装饰件等)加工工艺过程中，都会涉及到曝光显影工艺；蚀刻液的密度：实际上，该原理与蚀刻速率的原理相同。这并不意味着蚀刻溶液的密度越低，侧面蚀刻越小，但是密度越高，侧面蚀刻越小，因为致密蚀刻溶液不需要电路板。凹凸面曝光显影抛光
曝光显影工艺是3d镜片产品装饰选用的一种后制程装饰方案。在玻璃、有机玻璃、蓝宝石与注塑件等3d产品(如前盖、嵌件、装饰件等)加工工艺过程中，都会涉及到曝光显影工艺！PCB曝光工艺和半导体工艺曝光工艺条件不一样，PCB通常是贴合式曝光，曝光是没有距离的，但现在的盖板是3D曲面盖板，它的曝光，通常来说MASK它跟产品有一定的距离，这个距离会造成一定的偏差，所以它的工艺是有难点的。目前的这项工艺还存在CG成型公差、掩膜版（MASK）公差、掩膜版转印公差、CG与掩膜版定位偏差、与光源平行度5个难点。凹凸面曝光显影抛光
在整个3D玻璃里面后段制程不可避免涉及到后段装饰，一是喷墨，喷墨有膜的致密性和膜的一致性是一个关键，在3D玻璃里面边缘和正面膜的一致的。还有在曝光、显影这边，对膜的要求会更高，膜如果不均匀会导致曝光过曝，或显影方面的过程，喷涂---曝光---显影---固化---蚀刻 喷的感光油墨, 在曝光时候, 用非林片把不用蚀刻的地方遮蔽起来 在曝光过程中, 需要蚀刻的部分就被曝光了, 凹凸面曝光显影抛光
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