水基清洗剂的概念与背景,概念：水基清洗剂是一种清洗媒介，是以去离子水作为主溶剂，与表面活性剂、助溶剂、添加剂等组合而成，借助于含有的表面活性剂、乳化剂、渗透剂等的润湿、乳化、渗透、分散、增溶等作用来实现对污染物的清洗。根据IPC-CH-65B CN《印制板及组件清洗指南》中的定位，水基清洗剂中去离子水不少于50%，水基清洗剂是以纯水或者有机或者无机皂化剂对组件进行道清洗，然后以
MP水基清洗剂厂
水基清洗剂的概念与背景,概念：水基清洗剂是一种清洗媒介，是以去离子水作为主溶剂，与表面活性剂、助溶剂、添加剂等组合而成，借助于含有的表面活性剂、乳化剂、渗透剂等的润湿、乳化、渗透、分散、增溶等作用来实现对污染物的清洗。根据IPC-CH-65B CN《印制板及组件清洗指南》中的定位，水基清洗剂中去离子水不少于50%，水基清洗剂是以纯水或者有机或者无机皂化剂对组件进行道清洗，然后以纯水冲洗掉（即漂洗）组件上的污水的一种制程。
早期传统的水基清洗剂工艺一般使用含氟利昂（CFC-113）的ODS（消耗臭氧层物质）清洗剂，该类清洗剂具有化学稳定性好、毒性大、不燃烧、表面张力小、不损伤被清洗材料以及能保持较强的渗透性和快干等优点。但ODS类清洗剂对臭氧层具有极强的破坏力，且ODS的GWP（温室效应潜能值）是CO2的几百甚至几千倍，严重危害人类的生态环境。也是各类国际法规限期生产和使用的物质。
水基清洗剂工艺的后期国内外也开发出短期的替代品，如氢氯氟烃、三等卤代溶剂，这类物质同样能够破坏臭氧层，现已有很多用户拒绝使用ODS类清洗物质。近年很多商家用环保类的作为ODS类清洗剂的代用品，但这类物质采用醇醚类酯类作为主要溶剂，具有闪点低、、，同时有些还含有VOCS等毒性物质，不仅存在很大的安全隐患，且对人体职业健康有一定危害。
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