镀膜设备是一种用于材料科学领域的科学仪器，能够在微颗粒表面沉积各种金属薄膜（包括磁性金属膜）、金属氧化物薄膜、金属氮化物薄膜及合金薄膜，且所镀薄膜致密、均匀、纯度高、附着力强等。
真空镀膜机是目前使用的真空条件下的真空设备。一般由真空室、真空单元和电气控制柜三大部分组成，排气系统由“扩散泵 + 机械泵 + 罗茨泵 + 低温陷阱 + 多冷”组成。
磁控溅射镀膜机
有机高分子镀膜设备价格
镀膜设备是一种用于材料科学领域的科学仪器，能够在微颗粒表面沉积各种金属薄膜（包括磁性金属膜）、金属氧化物薄膜、金属氮化物薄膜及合金薄膜，且所镀薄膜致密、均匀、纯度高、附着力强等。
真空镀膜机是目前使用的真空条件下的真空设备。一般由真空室、真空单元和电气控制柜三大部分组成，排气系统由“扩散泵 + 机械泵 + 罗茨泵 + 低温陷阱 + 多冷”组成。
磁控溅射镀膜机
各种镀膜技术都需要一个蒸发源或蒸发靶，以便将蒸发的成膜物质转化为气体。随着来源或目标的不断提高，电影制作材料的选择范围也大大扩大。无论是金属、合金、化合物、陶瓷还是有机物，都可以气相沉积各种金属膜和介质膜，不同的材料可以同时气相沉积得到多层膜。
蒸发或溅射出的成膜材料是在一般磁控溅射条件下与待镀工件形成膜的过程。膜厚可以测量和控制。磁控镀膜机的真空镀膜技术的特点主要包括真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀、真空束沉积和化学气相沉积。
真空镀膜设备选购因素
1、真空系统由机械泵、扩散泵、增扩泵、油增压泵、罗茨泵、埚轮分子泵等及与它们相匹配的各种气动、手动、电动阀门、管道等组成。
2、根据工艺要求选择不同规格及类型的镀膜设备，其类型有电阻蒸发、电子束蒸发、磁控溅射、磁控反应溅射、离子镀、空心阴极离子镀、多弧离子镀等。
3、炉体可选择由不锈钢、碳钢或它们的组合制成的双层水冷结构。
真空镀膜机的镀膜性能
（1） 金属外观
（2） 均色
（3） 表面，在各种基本空气和阳光直射环境条件下保持良好外观。
（4） 颜色深沉明亮
（5） 它是经济的，并且可以减少清洁和抛光电镀黄铜或金所需的时间和成本。
真空镀膜机的原理
真空主体——真空室根据加工产品的要求差异，大小也不一。目前应用的真空室有直径1.3M、0.9M、1.5M、1.8M等。燃烧室由不锈钢制成，不需要生锈、坚固等。真空室的所有部分都设有连接阀，用于连接各种泵。
辅助抽气系统：排气系统是真空镀膜机的重要组成部分，主要由机械泵、增压泵(主要引入罗茨泵)和油扩散泵组成。排气系统由“扩散泵+机械泵+罗茨泵+低温冷阱+polycold”组成。机械泵首先将真空室抽入小于2.0 * 10-2 pa 的低真空状态，为扩散泵的后续真空抽吸提供了前提，然后在扩散泵的真空室抽吸时，机械泵与油扩散泵串联，完成抽吸作用。
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