10级：主要用于带宽小于2微米的半导体工业。其空气净化要求仅次于1级，并且我国半导体技术也在发展之中，在未来对洁净度的要求更加高。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。净化工程在设计时，无论是新建还是重新改造
净化工程装修
10级：主要用于带宽小于2微米的半导体工业。其空气净化要求仅次于1级，并且我国半导体技术也在发展之中，在未来对洁净度的要求更加高。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。净化工程在设计时，无论是新建还是重新改造的净化车间，都一定依照相关标准、规范进行。
布置工艺的流程尽可能短，减少交叉往复，、物流走向合理。要配备人员净化室、物料净化室，除配备产品工序要求的用室外，还应配备洁具室、洗衣间、暂存室等，每间用室相互，净化工程的面积应在保证基本要求前提下，与生产规模相适应。净化工程的步的关键是设计，工程设计水平的好与坏将直接关系到整个工程之后的施工，还会影响净化工程今后的稳定性、可靠性、经济性。净化工程在设计时，无论是新建还是重新改造的净化车间，都一定依照相关标准、规范进行。
要说净化工程在发展的前景方面，形势还是非常好的，市场需求更是一片大好。因为我们的制药、电子信息等行业都在迅速发展，所以对净化工程行业的发展起到了带动的作用。在这里需要提醒大家的是自从我们的医方面的改条文GMP-2010发布之后，既推动了生物医和食品化工行业的发展，也间接的推动了净化工程行业的发展。而且相关方面支持也让净化工程行业的发展机遇推到了非常好。净化工程技术的兴起不过是上个世纪的事情，但今天净化技术发挥着重要作用则是有目共睹的。随着产品向着、精、尖方向发展，对净化车间的依赖度也越来越高。而随着净化技术的发展，建设净化车间的技术含量也越来越高，非人士不能也。除了在生产领域，净化工程技术还会逐渐应用于家庭、公共场合，为人们提供更洁净的生活空间压力差的维持依靠新风量，这个新风量要能补偿在这一压力差下从缝隙漏泄掉的风量。所以压力差的物理意义就是漏泄（或渗透）风量通过洁净室的各种缝隙时的阻力。
在实际施工中，净化项目通常分为，分工和分时。 这种安排有利于各种和工作类型的管理。 但是，易于进行多尘和无尘的交叉操作，应尽可能避免这种结构布置。 如果不可避免，应该防止灰尘和有效清洁。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。我们的空气分子控制等的技术正在朝有利的方向发展，这项技术原先是由日本发展起来的，现在已经受到了全世界的关注和认可，在我们，这项技术已经受到了相关行业的重视并且投入研发，相信在不久的未来，我们的相关科研人员一定会在这个领域取得让人满意的成绩，为我们的净化工程行业做出贡献。
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